[发明专利]衍射光栅辅助的自清洁材料有效
申请号: | 201080021049.5 | 申请日: | 2010-05-13 |
公开(公告)号: | CN102427881A | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 查理·A·埃尔德昂;爱德华·A·埃拉谢 | 申请(专利权)人: | 英派尔科技开发有限公司 |
主分类号: | B01J35/10 | 分类号: | B01J35/10;B01J21/06;C03C17/23;C09D1/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李新红 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衍射 光栅 辅助 清洁 材料 | ||
相关申请的交叉引用
本申请要求2009年5月14日提交的名称为衍射光栅辅助的自清洁材料的美国专利申请12/465,711的权益,其整个公开内容通过引用结合在本文中。
本申请涉及2009年5月14日提交的名称为纳米管辅助的自清洁材料的美国专利申请12/465,717。
背景技术
本公开内容涉及自清洁材料,更具体地涉及采用具有闪耀衍射光栅的自清洁层的材料。
自清洁材料能够长期有效地保持产品和表面清洁。自清洁材料正日益用于许多场合,包括建筑物外部,浴室,窗,和用于各种表面的涂层。概要
本公开内容描述了一种对暴光(即,暴露于光)响应的自清洁材料。自清洁材料的一些例子可包括具有第一表面和第二表面的基材,设置在该基材的第一表面上的自清洁层,和/或在该自清洁层的暴光表面中形成的衍射光栅。衍射光栅可包含被设置成增强对入射在暴光表面上的光的吸收的闪耀状态。
本公开内容描述了一种对暴光响应的自清洁材料。自清洁材料的一些例子可包括具有第一表面和第二表面的基材,设置在该基材的第一表面上的自清洁层,和/或在设置在该基材的第二表面上的第二自清洁层。具有第一闪耀状态的第一衍射光栅形成在第一自清洁层的第一暴光表面上并且被设置成:至少部分基于第一闪耀状态增强光的吸收。具有第二闪耀状态的第二衍射光栅形成在第二自清洁层的第二暴光表面上并且被设置成:至少部分基于第二闪耀状态增强光的吸收。
本公开内容描述了一种自清洁材料。自清洁材料的一些例子可包括在自清洁材料的第一表面上形成的闪耀衍射光栅。自清洁材料对入射到第一表面上的光的吸收被设置成:基于对应于衍射光栅的闪耀状态和该光对第一表面的入射角而在第一表面上进入光诱导自清洁状态。
以上概述仅是说明性的且不意味着以任何方式限定。除了上述的说明性的方面,实施方案,和特征之外,其他的方面,实施方案,和特征通过参照附图和以下的详细描述而变得明显。
附图简述
如果结合其中显示本公开内容的多个实施方案中的一个或多个实施方案的附图阅读以下描述和所附权利要求,以下的详细描述会得到更好的理解。但应该理解,本公开内容的各种实施方案不限于附图所示的确切排列和设置。在附图中:
图1是说明一种示例性自清洁材料的横截面视图;
图2是说明一种示例性自清洁材料的横截面视图;
图3是说明一种示例性自清洁材料的放大横截面视图,显示入射其上的光的一个例子;
图4是横截面视图,说明具有对近似法向入射照射的闪耀角的一种示例性自清洁材料;
图5是横截面视图,说明具有对切线入射照射的闪耀角的一种示例性自清洁材料;
图6是横截面视图,说明采用相光栅的一种示例性自清洁材料;
图7是说明一种示例性自清洁材料的横截面视图,其中基材的多个表面包括自清洁层;和
图8是说明一种示例性自清洁材料的横截面视图,其中基材的多个表面包括具有不同闪耀角的自清洁层;所有这些都按照本公开内容的至少某些实施方案设置。
详细描述
在以下详细描述中,参考构成其一部分的附图。在附图中,类似符号通常表示类似元件,除非本文另有所指。在详细描述、附图和权利要求中描述的说明性实施方案不意味着限定。在不背离本文主题的主旨或范围的情况下,可以采取其他实施方案,可以进行其他的变化。容易理解,在本文中被一般性描述并在图中说明的本公开内容的那些方面可按照各种各样的不同构造进行排列,替代,组合,和设计,这些都无疑被认为构成本公开内容的一部分。
简要地说,本公开内容的多个实施方案包括一种自清洁材料,所述自清洁材料包含具有第一表面和第二表面的基材。自清洁层可被设置在基材的第一表面上。衍射光栅可在自清洁层的暴光表面中形成,其中自清洁层对入射在暴光表面上的光的吸收可由衍射光栅按照对应于该衍射光栅的闪耀状态而增强。
所公开的自清洁材料采用一种可增加自清洁材料的光诱导自清洁性能的衍射光栅。图1是横截面视图,说明按照本公开内容的至少某些实施方案排列的一个示例性自清洁材料10。该示例性自清洁材料10包括基材100和具有位于基材100的表面310上的衍射光栅105的自清洁层110。衍射光栅105可使用各种技术在自清洁层110上形成,所述各种技术包括但不限于机械划线和全息记录。关于形成衍射光栅的详细讨论仅为便利起见而在此被省略,因此不应被理解为限定性的。
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