[发明专利]衍射光栅辅助的自清洁材料

权利要求书

1.一种对暴光响应的自清洁材料，所述自清洁材料包括：

具有第一表面和第二表面的基材；

被设置在所述基材的第一表面上的自清洁层；和

形成在所述自清洁层的暴光表面中的衍射光栅，其中所述衍射光栅包含闪耀状态，所述闪耀状态被设置成增强对入射在暴光表面上的光的吸收。

2.权利要求1的自清洁材料，其中所述衍射光栅的闪耀状态对应于与所述自清洁材料的预期应用方位有关的光的最概然入射角。

3.权利要求2的自清洁材料，其中所述预期应用方位是基本上垂直的并且所述光的最概然入射角几乎平行于所述第一表面。

4.权利要求2的自清洁材料，其中所述预期应用方位是基本上水平的并且所述光的最概然入射角几乎垂直于所述第一表面。

5.权利要求1的自清洁材料，其中所述衍射光栅是相光栅。

6.权利要求1的自清洁材料，其中所述自清洁层响应暴光而成为光催化、憎水或亲水的。

7.权利要求6的自清洁材料，其中所述光是紫外光。

8.权利要求1的自清洁材料，其中所述自清洁层至少部分包含二氧化钛。

9.权利要求1的自清洁材料，其中所述衍射光栅的闪耀状态被设置成提高自清洁层的双光子吸收的机会。

10.权利要求9的自清洁材料，其中所述自清洁层的所述双光子吸收被设置成：基于可见波长的光而进入光催化状态。

11.一种对暴光响应的自清洁材料，所述自清洁材料包含：

具有第一表面和第二表面的基材；

被设置在所述基材的第一表面上的第一自清洁层，其中具有第一闪耀状态的第一衍射光栅形成在第一自清洁层的第一暴光表面上并且被设置成：至少部分基于第一闪耀状态而增强光的吸收；和

被设置在基材的第二表面上的第二自清洁层，其中具有第二闪耀状态的第二衍射光栅形成在第二自清洁层的第二暴光表面上并且被设置成：至少部分基于第二闪耀状态而增强光的吸收。

12.权利要求11的自清洁材料，其中第一和第二自清洁层是不同材料。

13.权利要求11的自清洁材料，其中第一自清洁层对光的吸收使得第一和第二自清洁层成为光催化、憎水或亲水的。

14.权利要求13的自清洁材料，其中第二自清洁层表现出不同于第一自清洁层的自清洁性能。

15.权利要求11的自清洁材料，其中第一和第二闪耀状态分别对应于所述光在所述第一和第二自清洁层的第一和第二暴光表面上的最概然入射角。

16.权利要求11的自清洁材料，其中第一闪耀状态基于处于未受控环境中的第一自清洁层而选择，而第二闪耀状态基于处于受控环境中的第二自清洁层而选择。

17.一种自清洁材料，所述自清洁材料包括：

在所述自清洁材料的第一表面中形成的闪耀衍射光栅，其中自清洁材料对入射在所述第一表面上的光的吸收被设置成：基于对应于所述衍射光栅的闪耀状态和光对第一表面的入射角，在第一表面上进入光诱导自清洁状态。

18.权利要求17的自清洁材料，其中闪耀衍射光栅的闪耀状态对应于与自清洁材料的预期应用方位有关的光的最概然入射角。

19.权利要求17的自清洁材料，其中所述自清洁层响应暴光而成为光催化、憎水或亲水的。

20.权利要求17的自清洁材料，所述自清洁材料还包括：

在自清洁材料的第二表面中形成的第二闪耀衍射光栅，其中所述自清洁材料对入射在第二表面上的光的吸收被设置成：基于对应于第二衍射光栅的第二闪耀状态和所述光对第二表面的入射角，在第二表面上进入光诱导自清洁状态。