[发明专利]抗蚀图案的形成方法及显影液有效
| 申请号： | 201080019592.1 | 申请日： | 2010-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102414625A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 东野诚司;近重幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/38;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 显影液 | ||
1.一种抗蚀图案的形成方法，其特征在于，含有以下工序：
抗蚀膜形成工序：在基板上形成含有选自由下述式(1)表示的杯芳烃衍生物1及下述式(2)表示的杯芳烃衍生物2组成的组的至少一种的杯芳烃衍生物的抗蚀膜，
其中，R为碳数为1～10的烷基，
其中，R为碳数为1～10的烷基，并且，
n为1～3的整数；
潜像形成工序：对所述抗蚀膜的一部分选择性地曝光高能射线而形成图案的潜像；以及
显影工序：使形成了潜像的所述抗蚀膜与含有选自由含氟烷基醚及含氟醇组成的组的至少一种的含氟溶剂的显影液接触而将没有曝光于高能射线的抗蚀膜的部分除去，由此对所述潜像进行显影。
2.根据权利要求1所述的抗蚀图案的形成方法，其中，含氟溶剂是沸点在大气压下为40℃以上的含氟溶剂。
3.根据权利要求1或2所述的抗蚀图案的形成方法，其中，对于通过潜像形成工序而得到的基板，在交付于显影工序前交付于在80℃～130℃的温度下进行加热处理的加热工序。
4.根据权利要求1～3的任一项所述的方法，其中，在潜像形成工序中进行曝光的高能射线的照射量为0.8mC/cm2以下。
5.一种抗蚀剂用显影液，其含有选自由含氟烷基醚及含氟醇组成的组中的至少一种的含氟溶剂。
6.根据权利要求5所述的显影液，其中，抗蚀剂为负性抗蚀剂。
7.根据权利要求6所述的显影液，其中，负性抗蚀剂包含杯芳烃衍生物。
8.根据权利要求5～7的任一项所述的显影液，其用于对在高能射线的照射量为0.8mC/cm2以下形成了潜像的负性抗蚀剂进行显影。
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