[发明专利]半导体薄片外观检查装置的检查条件数据生成方法以及检查系统

权利要求书

1.一种薄片检查条件生成方法，生成检查形成在薄片上的半导体芯片外观的多台检查装置的检查条件数据，该方法包括以下步骤：

机差校正数据登录步骤，计算出相对于设计值的每台薄片检查装置的机差，然后登录机差校正数据；

第一检查条件数据生成步骤，在所选择的任意一台薄片检查装置中，使用薄片生成检查条件数据；

通用检查条件数据生成步骤，从所述检查条件数据和所述所选择的任意一台薄片检查装置的所述机差校正数据，生成通用检查条件数据；

第二检查条件数据生成步骤，从所述通用检查条件数据和每台薄片检查装置的所述机差校正数据，生成每台薄片检查装置的检查条件数据。

2.根据权利要求1所述的薄片检查条件生成方法，其特征在于：所述机差校正数据至少包括以下误差数据中的任意一个误差数据：

设置在薄片检查装置上的、放置薄片的台子的检查平台的原点位置与检查薄片的检查摄像机中心位置和放置在所述检查平台上的薄片的中心位置之间的误差数据；

检查薄片的检查摄像机的聚焦位置的误差数据；

所述检查摄像机所具有的透镜的观察倍数的误差数据；

所述检查摄像机所具有的照明用光源的、相对于所需亮度的设定值的误差数据。

3.一种薄片检查系统，生成检查形成在薄片上的半导体芯片外观的多台检查装置的检查条件数据，该系统包括以下装置：

机差校正数据登录装置，计算出相对于设计值的每台薄片检查装置的机差，然后登录机差校正数据；

第一检查条件数据生成装置，在所选择的任意一台薄片检查装置中，使用薄片生成检查条件数据；

通用检查条件数据生成装置，从所述检查条件数据和所述所选择的任意一台薄片检查装置的所述机差校正数据，生成通用检查条件数据；

第二检查条件数据生成装置，从所述通用检查条件数据和每台薄片检查装置的所述机差校正数据，生成每台薄片检查装置的检查条件数据。

4.根据权利要求3所述的薄片检查系统，其特征在于：所述机差校正数据至少包括以下误差数据中的任意一个误差数据：

设置在薄片检查装置上的、放置薄片的台子的检查平台的原点位置与检查薄片的检查摄像机中心位置和放置在所述检查平台上的薄片的中心位置之间的误差数据；

检查薄片的检查摄像机的聚焦位置的误差数据；

所述检查摄像机所具有的透镜的观察倍数的误差数据；

所述检查摄像机所具有的照明用光源的、相对于所需亮度的设定值的误差数据。