[发明专利]透明导电膜和透明导电膜层叠体及其制造方法、以及硅系薄膜太阳能电池有效
申请号: | 201080011190.7 | 申请日: | 2010-03-10 |
公开(公告)号: | CN102348827A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 阿部能之;中山德行 | 申请(专利权)人: | 住友金属矿山株式会社 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/34;C23C14/58;H01B5/14;H01B13/00;H01L31/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电 层叠 及其 制造 方法 以及 薄膜 太阳能电池 | ||
1.一种透明导电膜,其特征在于,以氧化锌为主成分,且含有选自铝和镓中的1种以上的添加金属元素,其含量在下述式(1)所示的范围内,并且表面粗糙度Ra为35.0nm以上,表面电阻为65Ω/□以下,
-[Al]+0.30≤[Ga]≤-2.68×[Al]+1.74...(1)
其中,[Al]是由Al/(Zn+Al)的原子数比表示的铝含量,另一方面,[Ga]是由Ga/(Zn+Ga)的原子数比表示的镓含量,所述原子数比以百分比表示。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,雾度为8%以上。
3.根据权利要求1或2所述的透明导电膜,其特征在于,雾度为10%以上。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的透明导电膜,其特征在于,雾度为16%以上。
5.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,表面电阻为20Ω/□以下。
6.根据权利要求1或5所述的透明导电膜,其特征在于,表面电阻为15Ω/□以下。
7.一种权利要求1~6中任一项所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,是使用以氧化锌为主成分、且含有选自铝和镓中的1种以上的添加金属元素的氧化物烧结体靶,利用溅射法在基板上形成氧化锌系透明导电膜II的透明导电膜的制造方法,
在溅射气体压力为2.0~15.0Pa、基板温度为200~500℃的条件下,使对所述氧化物烧结体靶的直流输入电功率密度为1.66W/cm2以上,以高速进行成膜。
8.一种透明导电膜层叠体,其特征在于,在形成于基板上的氧化铟系透明导电膜I上形成权利要求1~6中任一项所述的氧化锌系透明导电膜II。
9.根据权利要求8所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,透明导电膜II为含有六方晶系结晶相的结晶膜。
10.根据权利要求9所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,六方晶系结晶相的取向实质上为c轴取向,相对于基板面的垂直方向c轴倾斜角度为10°以下。
11.根据权利要求8所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,氧化铟系透明导电膜I是以氧化铟为主成分,且含有选自Sn、Ti、W、Mo和Zr中的1种以上的金属元素的结晶膜。
12.根据权利要求8或11所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,氧化铟系透明导电膜I以氧化铟为主成分,并含有Sn,其含有比例以Sn/(In+Sn)原子数比计为15原子%以下。
13.根据权利要求8或11所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,氧化铟系透明导电膜I以氧化铟为主成分,并含有Ti,其含有比例以Ti/(In+Ti)原子数比计为5.5原子%以下。
14.根据权利要求8或11所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,氧化铟系透明导电膜I以氧化铟为主成分,并含有W,其含有比例以W/(In+W)原子数比计为4.3原子%以下。
15.根据权利要求8或11所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,氧化铟系透明导电膜I以氧化铟为主成分,并含有Zr,其含有比例以Zr/(In+Zr)原子数比计为6.5原子%以下。
16.根据权利要求8或11所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,氧化铟系透明导电膜I以氧化铟为主成分,并含有Mo,其含有比例以Mo/(In+Mo)原子数比计为6.7原子%以下。
17.根据权利要求8~16中任一项所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,表面电阻为20Ω/□以下。
18.根据权利要求8~17中任一项所述的透明导电膜层叠体,其特征在于,雾度为12%以上。
19.一种权利要求8~18中任一项所述的透明导电膜层叠体的制造方法,其特征在于,首先,使用含有选自Sn、Ti、W、Mo和Zr中的1种以上的金属元素的、以氧化铟为主成分的氧化物烧结体靶,以溅射法在基板上形成氧化铟系透明导电膜I的结晶膜,接着,切换成以氧化锌为主成分、且含有选自铝和镓中的1种以上的添加金属元素的氧化物烧结体靶,在氧化铟系透明导电膜I上形成氧化锌系透明导电膜II。
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