[发明专利]温度检测装置、加热装置有效
申请号: | 201080005656.2 | 申请日: | 2010-01-27 |
公开(公告)号: | CN102301196A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 吉元刚;山根克己;大野哲宏;沟口贵浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | F27D21/00 | 分类号: | F27D21/00;F27D19/00;G01K1/16;H05B3/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美红;杨楷 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 温度 检测 装置 加热 | ||
1.一种温度检测装置,
在内部进行将被加热对象基板通过辐射加热的真空加热处理的真空槽中具有温度测量用基板、紧贴在上述温度测量用基板上而配置、在内部流过冷媒的循环路径、和设在上述温度测量用基板上、测量上述温度测量用基板的温度的温度传感器,
构成为,当对上述温度测量用基板照射红外线时,检测上述温度传感器输出的温度,
其特征在于,
上述温度测量用基板和上述被加热对象基板由不同的材料构成。
2.如权利要求1所述的温度检测装置,其特征在于,上述温度测量用基板由金属构成。
3.如权利要求1或2所述的温度检测装置,其特征在于,上述温度传感器是产生热电偶的电动势的测温部。
4.一种加热装置,其特征在于,
具有:
真空槽,在内部进行将被加热对象基板通过辐射加热的真空加热处理;
基板保持装置,在上述真空槽内保持被加热对象基板;
辐射加热机构,与上述被加热对象基板非接触地配置在上述真空槽内,对上述被加热对象基板照射红外线;
权利要求1所述的温度检测装置,位于上述辐射加热机构与上述被加热对象基板面对的区域的外侧,配置在不将对上述被加热对象基板的表面照射的上述红外线遮挡的位置上;
冷却装置,将冷却的冷媒供给到上述循环路径中;
电源装置,基于输入的信号对上述辐射加热机构通电;
控制装置,被输入上述温度检测装置的输出信号,将表示向上述辐射加热机构的投入电力的信号向上述电源装置输出;
构成为,基于上述输出信号表示的上述温度测量用基板的温度控制向上述辐射加热机构的通电量。
5.一种基板加热方法,是将被加热对象基板运入到真空槽内、
通过与上述被加热对象基板非接触地配置在上述真空槽内的辐射加热机构对上述被加热对象基板的表面照射红外线、使上述被加热对象基板升温的加热方法,
其特征在于,
预先在上述真空槽内配置权利要求1所述的温度检测装置;
基于上述温度检测装置输出的上述检测信号表示的上述温度测量用基板的温度,控制向上述辐射加热机构的红外线释放量。
6.如权利要求4所述的基板加热方法,是将上述被加热对象基板在20℃以上30℃以下的温度下运入到上述真空槽内的基板加热方法,其特征在于,
上述温度测量用基板使冷媒流到上述循环路径的内部,在将上述温度测量用基板设为20℃以上30℃以下的温度后,通过上述辐射加热机构开始上述被加热对象基板和上述温度测量用基板的加热。
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