[发明专利]光固化性转印片、以及使用其的凹凸图案的形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及可有利地用于制造电子器件、光学部件、存储介质等的光固化性转印片、以及使用其的凹凸图案的形成方法，特别涉及微细加工技术的纳米压印。

背景技术

使用光或电子射线的微细加工技术的进展显著，用光实现了100nm的加工，用电子射线实现了10nm的加工。然而，由于这些微细加工装置昂贵，因此需要更廉价的加工技术。根据这种目的，正在逐步确立通过纳米压印技术(nano-imprint technology)来在硅基板等上形成所需的电路图案等的方法。与以往的冲压技术(press technology)相比，纳米压印技术是用于实现更微小的结构的微细加工技术。该技术本身没有分辨率的界限，分辨率是由模具(即mold)的制作精度来决定的。因此，只要能制作模具，即可通过与现有的照相平版法相比更容易且廉价得多的装置来形成极微细结构。

纳米压印技术根据被转印的材料大致分为两类。一类是将被转印的材料加热，通过模具(mold)来使之塑性变形，然后冷却来形成图案的热纳米压印技术。另一类是在基板上在室温下涂布液态的光固化性树脂，然后将光透过性的模具按压在树脂上并照射光，从而使基板上的树脂固化来形成图案的光纳米压印技术。尤其是光纳米压印技术可以在室温下形成图案，因此不容易因由热导致的基板、模具之间的线性膨胀系数差而产生变形，可以形成高精度的图案，其作为半导体等的光刻技术的替代技术而受到关注。

虽然通过纳米压印可以廉价地进行图案成形，但树脂容易附着在作为母压模(mother stamper)的模具(mold)上，在附着有树脂时，极难维修该模具。模具(mold)非常昂贵，因此从制造整体来看在很多情况下称不上廉价。

专利文献1(日本特开2007-165812号公报)中公开了基于两道工序的压印法。即，在第一工序中，在具有形成了微米级或纳米级的微细凹凸图案的表面的模板(上述母压模的反转物)上，以表面与表面正对接触的方式放置热塑性聚合物等塑性聚合物箔(plasticity polymer foil)，进行压印处理，从而在聚合物箔的表面形成模板表面的图案的反转图案。接着，在第二工序中，对所得聚合物压模(中间压模)实施与上述同样的处理，在另一塑性聚合物箔的表面形成第二反转拷贝(与模板相同的图案)。

该方法中，产品使用中间压模来成型，因此不会使母压模(模板)产生严重损伤。然而，虽然由于在中间压模的制作中使用热塑性聚合物而可以使用大范围的各种各样的聚合物，但反之，存在的不利有：成型需要加热、冷却这样的大量能量，而且成型时间需要1分钟以上的长时间。因此，在连续制造时难以缩短生产节拍时间(tact time，处理所需的时间)。

另外，专利文献1中记载了在中间压模制作时组合使用光固化性树脂的例子，但由于光固化性树脂是液态物，因此操作性差，另外固化收缩、厚度不均匀等也大，因而无法实现包括上述缩短生产节拍时间等在内的生产率的提高。进而，存在如下问题：与母压模的剥离性低，以及，与从中间压模转印凹凸图案得到的产品、即固化了的紫外线固化树脂的剥离性低。

另一方面，专利文献2中公开了如下方法：在制作由紫外线固化树脂形成的中间压模时，在基材薄膜上的紫外线固化树脂中添加内部固化型有机硅树脂，从而改善剥离性的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-165812号公报

专利文献2：日本特开平9-63130号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，专利文献2的紫外线固化树脂也是液态物，无法解决上述的操作性差、固化收缩等问题。此外，在添加有机硅树脂时，如果添加量少，则无法发挥剥离性改善效果，如果添加量多，则无法保持与基材薄膜的密合，因此，未必能说是充分的方法。

通过本发明人等的研究可知，关于操作性等问题，作为转印材料，通过代替紫外线固化性树脂而使用片状的光固化性树脂(即光固化性转印片)，操作性、固化收缩等得到了改善。但，如上所述，关于剥离性改善等问题，仅通过添加有机硅树脂是说不上充分的。