[实用新型]一种硅块厚度测量装置有效
| 申请号: | 201020673732.4 | 申请日: | 2010-12-22 |
| 公开(公告)号: | CN201964876U | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
| 发明(设计)人: | 杨建良 | 申请(专利权)人: | 无锡上机数控股份有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
| 代理公司: | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人: | 顾吉云 |
| 地址: | 214128 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 厚度 测量 装置 | ||
1.一种硅块厚度测量装置,其特征在于:包括底座、立柱、操纵箱、所述立柱安装于所述底座的一端,所述立柱上安装有激光测量头,所述操纵箱与所述激光测量头之间电控连接。
2.根据权利要求1所述的一种硅块厚度测量装置,其特征在于:所述立柱上有一空腔,所述激光测量头安装在所述空腔内。
3.根据权利要求1或者2所述的一种硅块厚度测量装置,其特征在于:所述底座上通过直线导轨安装有下滑台,所述下滑台上通过直线导轨安装有上滑台。
4.根据权利要求3所述的一种硅块厚度测量装置,其特征在于:所述上滑台覆盖有尼龙板。
5.根据权利要求4所述的一种硅块厚度测量装置,其特征在于:所述操纵箱安装在所述立柱的顶部,所述操纵箱内装有一触摸式显示屏,所述触摸式显示屏与所述激光测量头之间电控连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡上机数控股份有限公司,未经无锡上机数控股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020673732.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光学检测装置
- 下一篇:一种网格支撑式闭式水冷却器





