[实用新型]膜浸渍槽及膜处理装置

权利要求书

1.一种膜浸渍槽，收容有对原水进行膜过滤的一个或者多个浸渍式膜单元，其特征在于，具有：

槽主体，其贮存所述原水；

单元支撑部，其设置于所述槽主体且与所述浸渍式膜单元抵接而支撑所述浸渍式膜单元；

堆积物排出部，其设置在所述槽主体的底部且形成为避开所述单元支撑部。

2.如权利要求1所述的膜浸渍槽，其特征在于，

所述单元支撑部为与所述浸渍式膜单元的下端抵接而支撑所述浸渍式膜单元的台座部。

3.如权利要求1所述的膜浸渍槽，其特征在于，

所述单元支撑部为与设置在所述浸渍式膜单元的上部的悬挂部抵接而支撑所述浸渍式膜单元的支撑座部。

4.如权利要求1～3中任一项所述的膜浸渍槽，其特征在于，

所述浸渍式膜单元具有：

浸渍部，其具有多个膜元件；

配管部，其设置有使透过所述膜元件的处理水通过的管路且配置位置在所述浸渍部的上侧；

所述槽主体具有：

下槽部，其收容所述浸渍部并使所述浸渍部浸渍在原水中；

上槽部，其宽度比所述下槽部的宽度大且配置有所述配管部。

5.如权利要求4所述的膜浸渍槽，其特征在于，

所述槽主体还具有：

原水贮存部，其与所述上槽部邻接而设置；

堰部，其配置在所述上槽部和所述原水贮存部之间，供给到所述原水贮存部的原水越过该堰部而流入所述上槽部。

6.如权利要求4或5所述的膜浸渍槽，其特征在于，

还具有定位构件，其保持并排设置的多个所述浸渍式膜单元彼此的间隔。

7.如权利要求6所述的膜浸渍槽，其特征在于，

所述定位构件为从所述槽主体的底部沿上下方向延伸的间隔件，

所述间隔件的上端配置在所述上槽部内。

8.如权利要求1～7中任一项所述的膜浸渍槽，其特征在于，

所述排出部具有排出管和向所述排出管引导所述堆积物的聚集部；

所述聚集部具有相对水平面具有坡度的倾斜壁，所述倾斜壁的下部与所述排出管连接。

9.一种膜处理装置，其具有膜浸渍槽和设置在所述膜浸渍槽内且对原水进行膜过滤的一个或者多个浸渍式膜单元，其特征在于，

所述浸渍式膜单元具有：

多个膜元件；

框架，其支撑多个所述膜元件；

散气部，其设置在所述框架且配置在所述膜元件的下方；

管路，其设置在多个所述膜元件的上方且使透过所述膜元件的处理水通过；

所述膜浸渍槽具有：

槽主体，其贮存原水；

单元支撑部，其设置于所述槽主体且与所述浸渍式膜单元抵接而支撑所述浸渍式膜单元；

堆积物的排出部，其设置在所述槽主体的底部且形成为避开所述单元支撑部。

10.如权利要求9所述的膜处理装置，其特征在于，

所述浸渍式膜单元中的膜面积与框架的安装面积之比为400～2000m²/m²。