[实用新型]磁控靶布气结构

说明书

技术领域

本实用新型属于磁控溅射领域，具体地说是一种磁控靶布气结构。

背景技术

目前，真空镀膜的方式很多，包括磁控溅射、电阻蒸发、电子束、分子束外延、电弧离子镀等多种方式，都能够在真空状态下，在样品上成膜。其中，磁控溅射是成膜的一种非常常规的工作方式，具有沉积速度快，基片低温，低损伤等优点。但是，磁控溅射的靶材利用率低，工作气体大多是通过匀气环引导到靶材表面或者是样品表面，以达到样品镀膜的均匀性。

实用新型内容

为了解决靶材利用率低的问题，并且能够更有效地利用工作气体，本实用新型的目的在于提供一种磁控靶布气结构。该磁控靶布气结构一方面将溅射气体引导到靶材表面，另一方向将反应气体引导到样品表面，能够更有效地利用工作气体，也大大提高了成膜质量；同时还提高了靶材的利用率。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：

本实用新型包括靶座、极靴、靶材、磁钢及屏蔽罩，其中靶座位于样品的下方，在靶座内设有极靴，靶座的顶部安装有靶材，靶座及靶材外设有屏蔽罩；所述磁钢安装在极靴上，磁钢的上端面沿轴向截面为斜角；在屏蔽罩与靶座之间设有溅射气体通道，溅射气体通过该溅射气体通道被引导至靶材的上表面；在屏蔽罩的外部设有反应气体的进气管，反应气体通过该进气管被引导至样品的下表面。

其中：所述磁钢包括围成方环的第一磁钢及将方环分隔成两部分的第二磁钢，第一磁钢内表面的上端为倒角，第二磁钢的顶端的两侧分别倒角，在轴向截面上，第二磁钢顶端的两个斜边分别与两侧的第一磁钢内表面上端的斜边相倾斜；所述磁钢包括第一磁钢及第二磁钢，第一磁钢为圆环形，其外表面为圆柱，内表面的底端为圆柱，顶端为锥面；所述第二磁钢位于第一磁钢内的中间位置，第二磁钢的顶端为锥台形，在轴向截面上，第二磁钢锥台的两个斜边分别与第一磁钢锥面的两个斜边相倾斜；所述靶座的底部开有进气口，该进气口的一端为进气端，另一端与设置在靶座内的总管道相连，该总管道通过多个第一气孔与溅射气体通道连通；进气口为一个或多个；第一气孔的直径小于总管道的直径；所述靶座的顶部设有靶座上盖，靶材通过中间开孔的靶材压盖安装在靶座上盖上；所述靶座的两侧分别设有固定板，每个固定板顶部的内壁均固接有挂钩，进气管安装在挂钩上，在进气管上开有朝向样品下表面的第二气孔；所述靶座内设有循环冷却水通道。

本实用新型的优点与积极效果为：

1.本实用新型将溅射气体引导至靶材的表面，将反应气体引导至样品的表面，提高了工作气体的利用率，也提高了镀膜的均匀性。

2.本实用新型的第一磁钢与第二磁钢顶端之间的斜角拉平了磁力线，增加了靶材刻蚀区的宽度，提高了靶材的利用率。

3.本实用新型结构简单，成本低，收益大。

附图说明

图1为本实用新型的内部结构示意图；

其中：1为样品，2为固定板，3为挂钩，4为进气管，5为屏蔽罩，6为靶材压盖，7为靶材，8为靶座上盖，9为靶座，10为第一磙钢，11为第二磁钢，12为极靴，13为进气口，14为进水口，15为第一气孔，16为溅射气体通道，17为第二气孔。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详述。