[实用新型]磁控靶布气结构

权利要求书

1.一种磁控靶布气结构，其特征在于：包括靶座(9)、极靴(12)、靶材(7)、磁钢及屏蔽罩(6)，其中靶座(9)位于样品(1)的下方，在靶座(9)内设有极靴(12)，靶座(9)的顶部安装有靶材(7)，靶座(9)及靶材(7)外设有屏蔽罩(6)；所述磁钢安装在极靴(12)上，磁钢的上端面沿轴向截面为斜角；在屏蔽罩(5)与靶座(9)之间设有溅射气体通道(16)，溅射气体通过该溅射气体通道(16)被引导至靶材(7)的上表面；在屏蔽罩(5)的外部设有反应气体的进气管(4)，反应气体通过该进气管(4)被引导至样品(1)的下表面。

2.按权利要求1所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述磁钢包括围成方环的第一磁钢(10)及将方环分隔成两部分的第二磁钢(11)，第一磁钢(10)内表面的上端为倒角，第二磁钢(11)的顶端的两侧分别倒角，在轴向截面上，第二磁钢(11)顶端的两个斜边分别与两侧的第一磁钢(10)内表面上端的斜边相倾斜。

3.按权利要求1所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述磁钢包括第一磁钢(10)及第二磁钢(11)，第一磁钢(10)为圆环形，其外表面为圆柱，内表面的底端为圆柱，顶端为锥面；所述第二磁钢位于第一磁钢(10)内的中间位置，第二磁钢(11)的顶端为锥台形，在轴向截面上，第二磁钢(11)锥台的两个斜边分别与第一磁钢(10)锥面的两个斜边相倾斜。

4.按权利要求1所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述靶座(9)的底部开有进气口(13)，该进气口(13)的一端为进气端，另一端与设置在靶座(9)内的总管道(18)相连，该总管道(18)通过多个第一气孔(15)与溅射气体通道(16)连通。

5.按权利要求3所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述进气口(13)为一个或多个；第一气孔(15)的直径小于总管道(18)的直径。

6.按权利要求1所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述靶座(9)的顶部设有靶座上盖(8)，靶材(7)通过中间开孔的靶材压盖(6)安装在靶座上盖(8)上。

7.按权利要求1所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述靶座(9)的两侧分别设有固定板(2)，每个固定板(2)顶部的内壁均固接有挂钩(3)，进气管(4)安装在挂钩(3)上，在进气管(4)上开有朝向样品(1)下表面的第二气孔(17)。

8.按权利要求1所述的磁控靶布气结构，其特征在于：所述靶座(9)内设有循环冷却水通道。