[实用新型]具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼无效

专利信息
申请号: 201020604798.8 申请日: 2010-11-13
公开(公告)号: CN201857798U 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 戴淑谨 申请(专利权)人: 戴淑谨
主分类号: E04H13/00 分类号: E04H13/00
代理公司: 台州蓝天知识产权代理有限公司 33229 代理人: 林春元
地址: 317500 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 智能 仿真 祭奠 多层 高层 纪念
【权利要求书】:

1.具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:多层或高层的纪念楼设置有地上、地下若干个楼层,所述的纪念楼地上、地下楼层每层的高度为2.4-2.8m,每个楼层内设置有若干房间,每个房间内以横向的中心线为界背靠背构建有两排智能祭奠室,在房间内的祭奠室外侧设置有通道,所述的祭奠室内设置有基座,在基座下方设置有骨灰盒或基因盒安装位,在骨灰盒或基因盒安装位的底部设置有经灭菌后的土层,在基座的前部设置有自动祭台,在基座上设置有智能仿真机器人像或视频多媒体影像设备。

2.根据权利要求1所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的两排智能祭奠室通过小于祭奠室高度的隔墙分隔而成。

3.根据权利要求1所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的纪念楼的地上楼层的每层的房间宽4m,进深为10m,在每个房间的前部设置有通道,通道互连形成回廊,通道宽2.4m。

4.根据权利要求1所述的带智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的设置在地上楼层的祭奠室的高2m、宽1m、进深1m,并与房间内的通道连接。

5.根据权利要求1所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的设置在地下楼层的祭奠室的高1.7m、宽0.8m、进深0.8m,并与房间内的通道连接。

6.根据权利要求1所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的基座高0.8m,宽0.8m或1m,进深0.3m。

7.根据权利要求1所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的自动祭台为在香案的中心设置有伸缩电子香,在伸缩电子香的两侧对称设置有烛台,在烛台上设置有伸缩电子蜡烛。

8.根据权利要求1或7所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的自动祭台与基座之间的距离为0.2m。

9.根据权利要求1或7所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的自动祭台的高度为0.25m。

10.根据权利要求1所述的具有智能仿真祭奠室的多层或高层纪念楼,其特征在于:所述的多层或高层的纪念楼为长方形四合院形式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戴淑谨,未经戴淑谨许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020604798.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top