[实用新型]多样品断面研磨台及研磨装置无效

专利信息
申请号: 201020551088.3 申请日: 2010-09-30
公开(公告)号: CN201815948U 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 裘莺;廖炳隆 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: B24B37/00 分类号: B24B37/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张骥
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 多样 断面 研磨 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种半导体领域失效分析实验的设备,具体涉及一种多样品断面研磨台。本实用新型还涉及一种研磨装置。

背景技术

在半导体失效分析领域,由于硅片在生产、测试、产品分析过程中,需要分析的结构过小或材质不同,手工裂片和定点切割达不到分析要求,只能通过断面研磨进行样品制备才能得到具体的分析结果。目前所使用的研磨工具只能一次磨一个样品,耗时长,工作效率低。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种多样品断面研磨台,它可以快速、高效地进行多个样品的断面研磨。

为解决上述技术问题,本实用新型多样品断面研磨台的技术解决方案为:

包括连接为一体的固定部、粘贴部,固定部的厚度大于粘贴部;固定部设有螺纹通孔。

所述粘贴部的长度小于硅片样品的直径。

所述固定部与粘贴部的连接处呈直角。

本实用新型还提供一种设置有多样品断面研磨台的研磨装置,其技术解决方案为:

包括多个断面研磨台、研磨座,多个断面研磨台沿厚度方向叠加,多个断面研磨台通过螺丝与研磨座固定连接。

本实用新型可以达到的技术效果是:

本实用新型能够同时对多个样品进行断面研磨,并可用光学显微镜、扫描电镜进行观察,从而实现快速、高效地进行断面样品的制备,提高工作效率。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明:

图1是本实用新型多样品断面研磨台的结构示意图;

图2是本实用新型设置有多样品断面研磨台的研磨装置的结构示意图;

图3是使用本实用新型研磨装置进行研磨的示意图;

图4是使用本实用新型研磨装置进行多方位观察的示意图;

图中附图标记说明:

1为固定部,             2为粘贴部,

3为螺纹通孔,           4为硅片样品,

10为研磨台,            20为研磨座,

30为研磨架,            31为螺丝,

41为研磨断面。

具体实施方式

如图1所示,本实用新型多样品断面研磨台10,包括连接为一体的固定部1、粘贴部2,固定部1的厚度大于粘贴部2;固定部1设有螺纹通孔3。

粘贴部2的长度小于硅片样品4的直径。

固定部1与粘贴部2的连接处呈直角,以便于样品4的固定和粘贴。

如图2所示,本实用新型设置有多样品断面研磨台的研磨装置,包括多个断面研磨台10、研磨座20,多个断面研磨台10沿厚度方向叠加,多个断面研磨台10通过螺丝31与研磨座20固定连接。

使用时,在每个断面研磨台10的粘贴部2的台面上各粘贴一个硅片样品4,将多个断面研磨台10叠合,通过螺丝31将其固定部1锁紧固定在研磨座20上,如图2所示;将研磨座20安装于研磨架30上,如图3所示,即可同时对多个样品4的研磨断面41进行断面研磨。

将螺丝31略微松开,转动断面研磨台10至不同位置,如图4所示,即可进行各个样品4的表面观察。

本实用新型能够同时对多个样品进行断面研磨,并可进行多方位观察。

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