[实用新型]钽溅射环有效
| 申请号： | 201020523965.6 | 申请日： | 2010-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN201842886U | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;周友平 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省余姚市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种钽溅射环，该钽溅射环上具有花纹，其特征在于，所述花纹的大小大于80TPI，且深度大于100μm。
2.根据权利要求1所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹的大小为大于50TPI，且小于20TPI。
3.根据权利要求2所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹的大小为大于45TPI，且小于25TPI。
4.根据权利要求3所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹的大小为大于40TPI，且小于30TPI。
5.根据权利要求1所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹的深度为大于200μm，且小于800μm。
6.根据权利要求5所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹的深度为大于300μm，且小于700μm。
7.根据权利要求6所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹的深度为大于400μm，且小于600μm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹由多个菱形结构重复排列形成。
9.根据权利要求8所述的钽溅射环，其特征在于，所述花纹采用滚花的方式制作。
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