[实用新型]研磨垫清洗臂的罩子有效
申请号: | 201020506080.5 | 申请日: | 2010-08-26 |
公开(公告)号: | CN201856167U | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | 高思玮 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B55/00 | 分类号: | B24B55/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 清洗 罩子 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种罩子。
背景技术
在半导体生产厂内,现有的研磨垫清洗臂(以下也称机台或被罩部件)的罩子,通常通过螺丝将罩子主体和被罩部件进行连接。然而,当机台运行的时候,由于震动,经常导致螺丝脱落造成晶圆破片事故发生,以致产品良率降低,提高了生产成本。另外,现有的研磨垫清洗臂的罩子,仅仅在罩子主体和被罩部件的接触面之间设有单密封环,密封效果不好,以致水渗入到机台内,造成机台锈蚀受损。另外,现有的研磨垫清洗臂的罩子,其内侧设有导引基座,降低了研磨垫清洗臂的可利用空间,减小了其活动空间。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种研磨垫清洗臂的罩子,不但安装方便,而且可以防止螺丝脱落造成破片发生。
为了达到上述的目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种研磨垫清洗臂的罩子,包括罩子主体,所述罩子主体的周边设有若干孔洞,每个孔洞内设有用于吸附被罩部件的磁铁。通过将原来的罩子主体和被罩部件之间的螺丝连接改成磁铁吸附连接,不但使得安装和拆卸更加方便,而且可以有效避免螺丝脱落造成破片事故发生。
所述孔洞均布于罩子主体的周边。
所述孔洞的开口处设有螺栓。所述螺栓和磁铁之间设有遇水变色的指示剂。所述指示剂是CuSiO4。所述罩子主体和螺栓采用透明亚克力材料。为了防止磁铁遇水生锈,而增加指示剂,该指示剂一旦遇水会变成蓝色,使用人员通过观察颜色即可判断磁铁遇水,从而立即采取措施防止或排除磁铁中的水分,或更换磁铁,从而有效保护磁铁,进而保证罩子主体和被罩部件的有效吸附。
所述孔洞有10-30个。为了使罩子主体和被罩部件之间有效吸附,空洞宜在10个以上。
所述罩子主体的内侧设有万向接头定向槽。通过设置万向接头定向槽来代替现有的导引基础,可以有效增加研磨垫清洗臂内的可利用空间。
所述罩子主体和被罩部件之间的水平向的接触面间设有空心密封环。所述罩子主体和被罩部件之间的竖直向的接触面间还设有T型密封环。双密封设计相比现有的单密封环密封具有更好的密封效果。
本实用新型的有益效果如下:
本实用新型研磨垫清洗臂的罩子,结构简单、使用方便。通过将原来的罩子主体和被罩部件之间的螺丝连接改成磁铁吸附连接,不但使得安装和拆卸更加方便,而且可以有效避免螺丝脱落造成破片事故发生。通过在磁铁上方设置指示剂可以便于使用人员及时发现磁铁是否遇水,从而防止磁铁生锈,保证罩子主体和被罩部件有效吸附连接。通过设置万向接头定向槽来代替现有的导引基础,可以有效增加研磨垫清洗臂内的可利用空间。另外,双密封设计相比现有的单密封环设计具有更好的密封效果,有效防止水渗入造成锈蚀。
附图说明
本实用新型的研磨垫清洗臂的罩子由以下的实施例及附图给出。
图1是现有的研磨垫清洗臂的罩子的俯视结构示意图;
图2是图1的A-A剖视图;
图3是图2的B部放大示意图。
图中,1-罩子主体、11-孔洞、111-磁铁、112-指示剂、113-螺栓、12-万向接头定向槽、13-空心密封环、14-T型密封环。
具体实施方式
以下将对本实用新型的研磨垫清洗臂的罩子作进一步的详细描述。
下面将参照附图对本实用新型进行更详细的描述,其中表示了本实用新型的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型而仍然实现本实用新型的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本实用新型的限制。
为了清楚,不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中,不详细描述公知的功能和结构,因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中,必须作出大量实施细节以实现开发者的特定目标,例如按照有关系统或有关商业的限制,由一个实施例改变为另一个实施例。另外,应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的,但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
为使本实用新型的目的、特征更明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率,仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
请参阅图1-3,图1是现有的研磨垫清洗臂的罩子的俯视结构示意图;图2是图1的A-A剖视图;图3是图2的B部放大示意图。
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