[实用新型]在电镀槽内均匀喷流电镀液的电镀装置无效
| 申请号: | 201020505644.3 | 申请日: | 2010-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN201785520U | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
| 发明(设计)人: | 詹前灿 | 申请(专利权)人: | 元旸工业有限公司 |
| 主分类号: | C25D5/08 | 分类号: | C25D5/08;C25D17/10 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电镀 均匀 喷流 装置 | ||
1.一种在电镀槽内均匀喷流电镀液的电镀装置,用以电镀至少一电镀件,该电镀件电连接于一阴极端,其特征在于,包含:
至少一电镀液喷流嘴,对应该电镀件中心线位置设置;及
一阳极遮蔽板,具有至少一中心开孔及环绕该中心开孔的多个第一分流开孔,且各个第一分流开孔面积小于该中心开孔面积;该阳极遮蔽板设置于该电镀件与该电镀液喷流嘴间,而使该中心开孔的中心线位置对应该电镀件与该电镀液喷流嘴的中心线位置。
2.如权利要求1所述的电镀装置,其特征在于,该阳极遮蔽板更包含:多个第二开孔,环绕该中心开孔与该多个第一分流开孔,且各个第二分流开孔面积小于各该等第一分流开孔面积。
3.如权利要求2所述的电镀装置,其特征在于,该中心开孔为一矩形开孔。
4.如权利要求1至3中任一项所述的电镀装置,其特征在于,该中心开孔至该电镀件垂直距离为D1,该电镀液喷流嘴至该中心开孔垂直距离为D2,该电镀件长度为L,该D1∶D2∶L=1∶1∶2。
5.如权利要求4所述的电镀装置,其特征在于,D1与D2为50mm,L为100mm。
6.如权利要求4所述的电镀装置,其特征在于,两个该中心开孔的中心线间垂直距离为D3,且D1∶D2∶D3∶L=1∶1∶4∶2。
7.如权利要求6所述的电镀装置,其特征在于,D1与D2为50mm,D3为200mm及L为100mm。
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