[实用新型]磁控溅射装置组合单元有效

专利信息
申请号: 201020056712.2 申请日: 2010-01-19
公开(公告)号: CN201704400U 公开(公告)日: 2011-01-12
发明(设计)人: 王金林;陆卫;季亚林;徐军 申请(专利权)人: 广东中航特种玻璃技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 代理人: 胡吉科
地址: 516083 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 磁控溅射 装置 组合 单元
【权利要求书】:

1.一种磁控溅射装置组合单元,其特征在于:包括阴极,分子泵以及导流罩,所述的分子泵设置在导流罩内,所述的分子泵与阴极并列设置。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射装置组合单元,其特征在于:所述的分子泵数量为2个。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射装置组合单元,其特征在于:所述的阴极以及分子泵以溅射传送方向依次设置。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射装置组合单元,其特征在于:所述的分子泵以及阴极以溅射传送方向依次设置。

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