[实用新型]一种掩膜装置有效
| 申请号: | 201020056405.4 | 申请日: | 2010-01-12 |
| 公开(公告)号: | CN201600550U | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
| 发明(设计)人: | 王士敏;李绍宗;郭志勇;钟荣苹 | 申请(专利权)人: | 深圳莱宝高科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
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| 地址: | 518057 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 装置 | ||
1.一种掩膜装置,用于面板的膜层加工,其包括基体材料层,所述基体材料层由不易变形且可承受高温的材料制成,其特征在于:所述掩膜装置至少还包括表面涂层,所述表面涂层设置于所述基体材料层的一侧,用于避免所述基体材料层与所述面板直接接触,且所述表面涂层由柔性且耐高温材料制成。
2.如权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于:所述掩膜装置上设有一个或多个镂空区域,该镂空区域用于在所述掩膜装置覆盖于所述面板上时曝露出所述面板。
3.如权利要求2所述的掩膜装置,其特征在于:所述表面涂层覆盖所述基体材料层的边缘以及围成所述镂空区域的基体材料层的边缘。
4.如权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于:所述表面涂层完全覆盖所述基体材料层。
5.如权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于:所述面板包括基板和已有膜层,所述已有膜层的厚度小于所述基板的厚度。
6.如权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于:所述面板包括基板和已有膜层,且所述已有膜层与所述掩膜装置的表面涂层直接接触。
7.如权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于:所述面板可以是显示面板,也可以是触摸面板。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





