[发明专利]反作用力抵消设备及具有该设备的涂胶机

权利要求书

1.一种反作用力抵消设备，所述设备安装于传送系统，所述传送系统包括支承元件、在所述支承元件上移动的移动元件、以及以可滑动的方式支承所述支承元件的框架，所述设备包括：

质量元件，所述质量元件连接于所述支承元件，并且通过由所述移动元件的运动所产生的反作用力在与所述支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

2.如权利要求1中所述的设备，所述设备进一步包括：

旋转元件，所述旋转元件以可旋转的方式连接于所述框架，所述旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于所述支承元件而第二端连接于所述质量元件。

3.如权利要求2中所述的设备，其中，所述旋转元件的所述旋转中心与使所述旋转元件和所述支承元件彼此相连的接触点之间的距离短于所述旋转元件的所述旋转中心与使所述旋转元件和所述质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

4.如权利要求1中所述的设备，所述设备进一步包括：

复位元件，所述复位元件将已经被移动过的所述质量元件回复至其初始位置。

5.如权利要求1到4中任一项所述的设备，其中，在所述质量元件与所述框架之间设置有抗摩擦装置。

6.如权利要求5中所述的设备，其中，在所述框架与所述抗摩擦装置之间设置有隔振器。

7.一种涂胶机，所述涂胶机包括：

涂布头单元支承件；

涂布头单元，所述涂布头单元以可移动的方式安装于所述涂布头单元支承件；

头移动单元，包括：

支承元件，所述支承元件以可滑动的方式连接于所述涂布头单元支承件；和

移动元件，所述移动元件安装于所述涂布头单元，使得所述头移动单元在所述涂布头单元支承件的纵向方向上移动所述涂布头单元；以及

反作用力抵消设备，所述反作用力抵消设备包括：

质量元件，所述质量元件连接于所述支承元件并且通过由所述涂布头单元和所述移动元件的运动所产生的反作用力在与所述支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

8.如权利要求7中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备进一步包括：

旋转元件，所述旋转元件以可旋转的方式连接于所述涂布头单元支承件，所述旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于所述支承元件而第二端连接于所述质量元件。

9.如权利要求8中所述的涂胶机，其中，所述旋转元件的所述旋转中心与使所述旋转元件和所述支承元件彼此相连的接触点之间的距离短于所述旋转元件的旋转中心与使所述旋转元件和所述质量元件彼此相连的接触点之间的距离。

10.如权利要求7中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备进一步包括：

复位元件，所述复位元件连接于所述质量元件，并且将已经移动过的所述质量元件回复到其初始位置。

11.如权利要求7到10中任一项所述的涂胶机，其中，在所述质量元件与所述涂布头单元支承件之间设置有抗摩擦装置。

12.一种涂胶机，所述涂胶机包括：

支承框架，所述支承框架支承其上安装有涂布头单元的涂布头单元支承件；

支承件移动单元，所述支承件移动单元包括：

支承元件，所述支承元件以可滑动的方式连接于所述支承框架；和

移动元件，所述移动元件安装于所述涂布头单元支承件，使得所述支承件移动单元在所述支承框架的纵向方向上移动所述涂布头单元支承件；以及

反作用力抵消设备，所述反作用力抵消设备包括：

质量元件，所述质量元件连接于所述支承元件并且通过由所述涂布头单元支承件和所述移动元件的运动所产生的反作用力在与所述支承元件的移动方向垂直的方向上移动。

13.如权利要求12中所述的涂胶机，其中，所述反作用力抵消设备还包括：

旋转元件，所述旋转元件以可旋转的方式连接于所述支承框架，并且所述旋转元件相对于旋转中心的第一端连接于所述支承元件而第二端连接于所述质量元件。

14.如权利要求13中所述的涂胶机，其中，所述旋转元件的旋转中心与使所述旋转元件和所述支承元件彼此相连的接触点之间的距离短于所述旋转元件的旋转中心与使所述旋转元件和所述质量元件彼此相连的接触点之间的距离。