[发明专利]偏光元件、偏光元件的制造方法、电子设备

权利要求书

1.一种偏光元件，其特征在于，具备：

基板；

在所述基板上隔开一定间隔且排列成带状的多个反射层；

形成于所述反射层上的电介体层；以及

无机微粒子层，其形成在所述电介体层上，由无机微粒子形成，并且具有分别朝向邻接的一个所述反射层侧和邻接的另一个所述反射层侧的凸部，其中，所述无机微粒子具有所述反射层的排列方向上的微粒子径长大于与所述反射层的排列方向正交的方向上的微粒子径长的形状各向异性。

2.如权利要求1所述的偏光元件，其特征在于，

所述无机微粒子层具有第一无机微粒子层和第二无机微粒子层，所述第一无机微粒子层具有设在邻接的一个所述反射层侧的第一凸部，所述第二无机微粒子层具有设在邻接的另一个所述反射层侧的第二凸部。

3.如权利要求2所述的偏光元件，其特征在于，

在从与所述反射层的排列方向正交的截面看时，所述第一无机微粒子层与所述第二无机微粒子层的截面面积比相同。

4.一种偏光元件的制造方法，其特征在于，包括：

反射层形成工序，在基板上形成隔开一定间隔且排列成带状的多个反射层；

电介体层形成工序，在所述反射层上形成电介体层；以及

无机微粒子层形成工序，在所述电介体层上形成无机微粒子，并形成具有分别朝向邻接的一个所述反射层侧和邻接的另一个所述反射层侧的凸部的无机微粒子层，其中，所述无机微粒子具有所述反射层的排列方向上的微粒子径长大于与所述反射层的排列方向正交的方向上的微粒子径长的形状各向异性。

5.如权利要求4所述的偏光元件的制造方法，其特征在于，

所述无机微粒子层形成工序中包括：

第一无机微粒子层形成工序，从邻接的所述反射层中的一个所述反射层侧进行倾斜成膜，从而形成具有向所述一个所述反射层侧倾斜的第一凸部的第一无机微粒子层；以及

第二无机微粒子层形成工序，从邻接的所述反射层中的另一个所述反射层侧进行倾斜成膜，从而形成具有向所述另一个所述反射层侧倾斜的第二凸部的第二无机微粒子层。

6.一种电子设备，其特征在于，

搭载了权利要求1至3中任一项所述的偏光元件，或者搭载了由权利要求4或5所述的偏光元件的制造方法制造出的偏光元件。