[发明专利]镀膜件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜件及该镀膜件的制备方法，特别涉及一种具有疏水效果的镀膜件及该镀膜件的制备方法。

背景技术

浸润性是固体表面的重要性质之一。疏水表面是指固体表面与水的接触角大于90°的表面。近年来，疏水表面在日常生活和工业领域有着越来越重要的应用价值。目前应用较多的主要为在固体表面涂覆表面能低的有机疏水层，其中该类有机疏水层以含氟和/或硅的高分子材料居多；但有机疏水材料通常具有硬度低、不耐磨、耐热温度低等缺点，严重影响其进一步的应用。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种有效解决上述问题的镀膜件。

另外，还有必要提供一种上述镀膜件的制备方法。

一种镀膜件，其包括基体及形成于基体表面的疏水层，该疏水层为非晶CN_y层，其中1≤y≤3。

一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

在基体表面形成疏水层，该疏水层为非晶CN_y层，其中1≤y≤3，该疏水层采用磁控溅射的方式形成，以石墨靶为靶材，以氨气为反应气体。

本发明所述镀膜件在基体表面沉积疏水层，该疏水层与水的接触角达到100～110°，且该疏水层具有化学性质稳定、耐高温、硬度高、耐磨等优点，可有效保护基体，相应地延长镀膜件的使用寿命。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；

图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜件    10

基体      11

疏水层    13

真空镀膜机20

镀膜室    21

石墨靶    23

轨迹      25

真空泵    30

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施方式镀膜件10包括基体11、形成于基体11表面的疏水层13。

该基体11的材质可为不锈钢或陶瓷。

该疏水层13为非晶氮化碳(CN_y)层，其中1≤y≤3。该疏水层13以磁控溅射的方式形成于所述基体11上，其厚度可为200～350nm。该疏水层13具有相对较低的表面能，且其与水的接触角可达100～110°。

本发明一较佳实施方式的镀膜件10的制备方法，其包括以下步骤：

提供一基体11，该基体11的材质可为玻璃或不锈钢。

将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗，以去除基体11表面的污渍，清洗时间可为30～50min。

对经上述处理后的基体11的表面进行氩气等离子体清洗，以进一步去除基体11表面的油污，以及改善基体11表面与后续镀层的结合力。结合参阅图2，提供一真空镀膜机20，该真空镀膜机20包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)和相对设置的二石墨靶23。转架带动基体11沿圆形的轨迹25公转，且基体11在沿轨迹25公转时亦自转。

该等离子体清洗的具体操作及工艺参数可为：将基体11固定于真空镀膜机20的镀膜室21中的转架上，将该镀膜室21抽真空至3.0×10^-5Torr，然后向镀膜室21内通入流量为500sccm(标准状态毫升/分钟)的氩气(纯度为99.999％)，并施加-100～-180V的偏压于基体11，对基体11的表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为3～10min。

采用磁控溅射法在经氩气等离子体清洗后的基体11上溅镀一疏水层13。该疏水层13为非晶氮化碳(CN_y)层，其中1≤y≤3。溅镀该疏水层13在所述真空镀膜机20中进行。开启石墨靶23，并设定石墨靶23的功率为5～10kw，以氨气为反应气体，氨气流量可为200～320sccm，以氩气为工作气体，氩气流量可为300～500sccm。溅镀时对基体11施加-120～-200V的偏压，并加热所述镀膜室21至温度为180～250℃，镀膜时间可为38～55min。该疏水层13的厚度可为200～350nm。

下面通过实施例来对本发明进行具体说明。

实施例1

本实施例所使用的真空镀膜机20为中频磁控溅射镀膜机，为深圳南方创新真空技术有限公司生产，型号为SM-1100H。

提供一基体11，该基体11为玻璃。