[发明专利]偏光板、显示设备及偏光板的制备方法有效
申请号: | 201010606615.0 | 申请日: | 2010-12-27 |
公开(公告)号: | CN102565908A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 李润复;朴求铉 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B27/26 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 张丽荣 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 显示 设备 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及3D显示技术中的偏光板、显示设备及偏光板的制备方法。
背景技术
3D(三维)显示是目前显示技术的发展趋势,采用3D显示可以让画面显示更加逼真,给用户身临其境的感觉体验。现有的3D显示技术主要包括裸眼3D显示技术、视差障栅3D显示技术、偏振光式3D显示技术、柱状透镜3D显示技术等。
偏振光式3D显示技术的原理为:一般需要在显示设备上设置相应的偏光板,使得透过偏光板之后的光线为两个不同偏振方向的偏振光,如图1所示,两个不同偏振方向的偏振光11和12在显示范围内间隔地排列着,用户通过偏振眼镜观看时,左眼和右眼分别观看到图1中两个不同偏振光,从而使得左眼和右眼的图像不同,形成3D显示的效果。
现有技术中在实现偏振光式3D显示时,设置在显示设备上的偏光板一般采用多次摩擦(Multi rubbing)方式或者UV光(ultraviolet light,紫外光)配向方式制作。以UV光配向方式制作偏光板为例,如图2所示,在进行制作时需要在透明玻璃板21上沉积UV配向膜22;然后按照图3中的方式,通过掩模板23利用其中一种方向的偏振光24(如横向偏振光)进行UV光照射,在UV光照射下UV配向膜22的分子连接形成链状,使得被该方向偏振光进行UV照射后的UV配向膜22只能够透过一种方向的偏振光;然后再按照图4的方式通过掩模板25(MASK)利用另一种方向的偏振光26(如竖向偏振光)进行UV光照射,同样,在UV光照射下UV配向膜的分子连接形成链状,使得被该方向偏振光进行UV照射后的UV配向膜只能够透过一种方向的偏振光。
由于上述两次利用UV光照射中采用的偏振光方向不同,一般采用相互垂直的偏振光,使得UV配向膜最后能够透过两个不同偏振方向的偏振光,并且通过对上述利用到的掩模板进行设计,可以使得两个不同偏振方向的偏振光的区域在偏光板上间隔地排列着。
在实现上述UV光配向方式制作偏光板的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:在制备过程中需要用到两次MASK工艺,制备过程较为复杂,造成制造偏光板的成本较高。
发明内容
本发明的目的提供一种偏光板、显示设备及偏光板的制备方法,具有较为简单的制备过程,并且成本较低。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种偏光板,包括透明基板,所述透明基板的一面上间隔地设有与所述透明基板的一边相平行的凹槽;
所述透明基板上设有凹槽的一面还形成有单一取向的双折射晶体层;对应所述凹槽处的双折射晶体层能使沿其法线方向入射并透过的线偏振光转变为第一圆偏振光,对应所述凹槽间隔处的双折射晶体层能使沿其法线方向入射并透过的线偏振光转变为第二圆偏振光,所述第一圆偏振光和第二圆偏振光的旋转方向相反。
优选地,所述双折射晶体层由反应型液晶构成或由四分之一波片相同的材料制成。
优选地,所述双折射晶体层与所述透明基板之间还有单一取向的配向层。
优选地,所述双折射晶体层的光轴与所述透明基板的表面平行。
优选地,所述凹槽处的双折射晶体层的厚度与待透过光线对应的四分之三波片厚度相同,所述凹槽间隔处的双折射晶体层的厚度与待透过光线对应的四分之一波片厚度相同;或者
位于所述凹槽内的双折射晶体层与所述透明基板的平面相平齐,并且所述凹槽内的双折射晶体层的厚度与待透过光线对应的二分之一波片厚度相同。
优选地,所述凹槽间隔均匀地设在所述透明基板上,所述凹槽截面为矩形,并且所述凹槽底部与所透明基板的一面向平行。
优选地,所述凹槽采用光刻工艺、蚀刻工艺、钻铣工艺、或喷砂磨削工艺形成。
一种偏光板的制备方法,其特征在于,包括:
(1)在透明基板的一面上形成间隔地设有与所述透明基板的一边相平行的凹槽;
(2)在所述透明基板上形成有凹槽的一面形成单一取向的双折射晶体层;对应所述凹槽处的双折射晶体层能使沿其法线方向入射并透过的线偏振光转变为第一圆偏振光,对应所述凹槽间隔处的双折射晶体层能使沿其法线方向入射并透过的线偏振光转变为第二圆偏振光,所述第一圆偏振光和第二圆偏振光的旋转方向相反。
优选地,所述(1)中形成凹槽的工艺为光刻工艺、蚀刻工艺、钻铣工艺、或喷砂磨削工艺。
优选地,所述双折射晶体层由反应型液晶构成或由四分之一波片相同的材料制成。
优选地,在所述步骤(1)和(2)之间,所述方法还包括:在所述透明基板上形成单一取向的配向层。
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