[发明专利]薄膜沉积装置及制造有机发光显示设备的方法

说明书

技术领域

本公开涉及去除基板与掩膜之间产生的静电的薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置制造有机发光显示设备的方法。

背景技术

有机发光显示设备具有比其它显示设备更大的视角、更好的对比度特性以及更快的响应速率，因此作为下一代显示设备已引起关注。

一般而言，有机发光显示设备具有包括阳极、阴极以及插入阳极与阴极之间的发射层的堆叠结构。当分别从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合并发光时，有机发光显示设备显示彩色图像。然而，使用这种结构很难实现高的发光效率。因此，另外在发射层与各电极之间插入包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等等的中间层。

电极和中间层可以通过使用各种方法来形成，其中一种方法是沉积方法。当使用沉积方法制造有机发光显示设备时，与待形成的薄膜具有相同图案的精细金属掩膜(FMM)被布置为紧密接触基板，并且在FMM之上沉积薄膜材料，以便形成具有所期望的图案的薄膜。

发明内容

本公开提供一种去除基板与掩膜之间产生的静电的薄膜沉积装置，使得由于静电而导致的掩膜和基板无法分离的现象不会发生，并且提供一种通过利用该薄膜沉积装置制造有机发光显示设备的方法。

根据本公开的一方面，提供一种薄膜沉积装置，包括：用于支撑基板的支撑体；被布置为面对所述基板的表面的掩膜；以及去除所述基板与所述掩膜之间产生的静电去除的静电去除器。

根据某些方面，所述静电去除器可以通过向所述掩膜供应电流而去除所述基板与所述掩膜之间产生的静电。

根据某些方面，所述静电去除器可以以预定频率向所述掩膜供应电流。

根据某些方面，所述静电去除器可以包括：用于向所述掩膜供应电流的电源；用于调整所述电流的量的电阻器；以及连接至所述电源、所述电阻器和所述掩膜以便构成闭合电路的电线。

根据本公开的另一方面，提供一种制造有机发光显示设备的方法，所述有机发光显示设备包括形成在基板上并且彼此面对的第一电极和第二电极以及布置在所述第一电极与所述第二电极之间的有机层，所述方法包括：将所述基板布置在腔室中；对掩膜进行定位以便面对所述基板的表面；通过所述掩膜在所述基板上沉积所述有机层；去除所述掩膜与所述基板之间产生的静电；并且将所述掩膜与所述基板彼此进行分离。

根据某些方面，去除静电可以包括向所述掩膜供应电流。

根据某些方面，去除静电可以包括以预定频率向所述掩膜供应电流。

根据某些方面，去除静电可以包括向所述掩膜供应电流，其中所述掩膜、用于向所述掩膜供应电流的电源以及用于调整所述电流的量的电阻器构成闭合电路。

本公开的其它方法和/或优点部分地记载在随后的说明书中，部分地从说明书中显而易见，或者可以通过实践本公开而获知。

附图说明

从以下结合附图对示例性实施例的描述中，本公开的这些和/或其它方面以及优点将变得明显并且更加容易理解，附图中：

图1是根据本公开示例性实施例的薄膜沉积装置的示意性截面图；

图2是根据本公开示例性实施例的图1的掩膜和静电去除器的示意性透视图；

图3至图5是用于示出根据本公开示例性实施例的薄膜沉积装置的功能的截面图；以及

图6是根据本公开示例性实施例的利用薄膜沉积装置制造的有机发光显示设备的截面图。

具体实施方式

现在将详细参照本公开的示例性实施例，其示例示出在附图中，其中相同的附图标记始终表示相同的元件。下面参照附图描述示例性实施例，以便说明本公开的各方面。

图1是根据本公开示例性实施例的薄膜沉积装置100的示意性截面图。图2是图1的掩膜103和静电去除器120的示意性透视图。

参见图1和图2，薄膜沉积装置100可以包括腔室101、支撑体102、掩膜103、沉积源104以及静电去除器120。支撑体102、掩膜103、沉积源104以及静电去除器120可以放置在腔室101中，并且可以在腔室101中执行薄膜沉积工艺。腔室101可以在薄膜沉积工艺期间保持真空。

在薄膜沉积工艺期间，支撑体102在腔室101中固定支撑基板110。如图1中示出的，支撑体102可以支撑基板110的边缘部分，使得薄膜108(参见图3)可以沉积在基板110的中央部分。基板110可以是平板显示装置的基板，或者可替代地，可以是大尺寸基板，例如其上可以形成有多个平板显示装置的母玻璃。