[发明专利]薄膜沉积装置及制造有机发光显示设备的方法有效
| 申请号: | 201010599753.0 | 申请日: | 2010-12-14 | 
| 公开(公告)号: | CN102148234A | 公开(公告)日: | 2011-08-10 | 
| 发明(设计)人: | 池昶恂;金兑承;李钟禹;安成国 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 | 
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/50;C23C14/04;C23C14/24 | 
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 罗正云;宋志强 | 
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄膜 沉积 装置 制造 有机 发光 显示 设备 方法 | ||
1.一种薄膜沉积装置,包括:
用于支撑基板的支撑体;
面对所述基板的表面布置的掩膜;以及
去除所述基板与所述掩膜之间产生的静电的静电去除器。
2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置,其中所述静电去除器通过向所述掩膜供应电流而去除静电。
3.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置,其中所述静电去除器以预定频率向所述掩膜供应所述电流。
4.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置,其中所述静电去除器包括:
用于向所述掩膜供应电流的电源;
用于调整所述电流的量的电阻器;以及
连接至所述电源、所述电阻器和所述掩膜以形成闭合电路的电线。
5.根据权利要求2所述的方法,其中所述静电去除器在预定时间量内向所述掩膜供应所述电流。
6.一种制造有机发光显示设备的方法,所述有机发光显示设备包括形成在基板上的彼此面对的第一电极和第二电极以及布置在所述第一电极与所述第二电极之间的有机层,所述方法包括:
将所述基板布置在腔室中;
对掩膜进行定位以便面对所述基板的表面;
通过所述掩膜在所述基板上沉积所述有机层;
去除所述掩膜与所述基板之间产生的静电;并且
将所述掩膜与所述基板分离。
7.根据权利要求6所述的制造有机发光显示设备的方法,其中去除静电包括向所述掩膜供应电流。
8.根据权利要求7所述的制造有机发光显示设备的方法,其中所述电流以预定频率被供应给所述掩膜。
9.根据权利要求7所述的制造有机发光显示设备的方法,其中所述电流通过在所述掩膜、用于向所述掩膜供应所述电流的电源以及用于调整所述电流的量的电阻器之间形成的闭合电路被供应给所述掩膜。
10.根据权利要求7所述的制造有机发光显示设备的方法,其中所述电流在预定时间量内被供应给所述掩膜。
11.根据权利要求7所述的制造有机发光显示设备的方法,其中向所述掩膜供应电流包括交替地在第一预定时间量内向所述掩膜供应所述电流,并且在第二预定时间量内不向所述掩膜供应所述电流。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星移动显示器株式会社,未经三星移动显示器株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010599753.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





