[发明专利]阵列基板及其制造方法和液晶显示器有效

专利信息
申请号: 201010596811.4 申请日: 2010-12-20
公开(公告)号: CN102566165A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 秦纬 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/02;H01L21/77
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 液晶显示器
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括衬底基板,所述衬底基板上依次形成有:第一金属层、栅绝缘层、有源层、第二金属层、钝化层和透明导电层;其特征在于:

所述第一金属层的导电图案与所述第二金属层的导电图案具有重叠区域;

处于重叠区域的第二金属层设有开孔;

处于重叠区域的栅绝缘层和钝化层设有过孔,所述过孔分别位于开孔内和开孔的两侧;位于所述开孔内的过孔贯穿所述钝化层和所述栅绝缘层,位于所述开孔两侧的过孔贯穿所述钝化层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述开孔为中心对称图形或轴对称图形。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,位于所述开孔两侧的过孔关于所述开孔内的过孔对称。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述开孔为两个以上,开孔之间成等间距设置。

5.一种阵列基板的制造方法,包括在衬底基板上依次形成第一金属层、栅绝缘层、有源层、第二金属层、钝化层和透明导电层的步骤,其特征在于:

在形成所述第二金属层时,在所述第二金属层的导电图案与所述第一金属层的导电图案的重叠区域设置开孔;

在形成所述钝化层之后,在处于所述重叠区域的栅绝缘层和钝化层加工过孔,所述过孔分别位于开孔内和开孔的两侧;位于所述开孔内的过孔贯穿所述钝化层和所述栅绝缘层,位于所述开孔两侧的过孔贯穿所述钝化层。

6.一种液晶显示器,包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,所述阵列基板和彩膜基板之间填充液晶材质形成液晶层,其特征在于:所述阵列基板采用权利要求1~4任一所述的阵列基板。

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