[发明专利]半导体封装件及其制造方法有效
申请号: | 201010585051.7 | 申请日: | 2010-12-03 |
公开(公告)号: | CN102088015A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | 王盟仁 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L25/065 | 分类号: | H01L25/065;H01L23/488;H01L23/31;H01L21/98 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 中国台湾高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明是有关于一种半导体封装件及其制造方法,且特别是有关于一种具有容置空间的半导体封装件及其制造方法。
背景技术
传统半导体封装件包括芯片组、基板、焊线及焊球。芯片组包括上芯片及下芯片,上芯片及下芯片以焊球作电性连接。芯片组以下芯片设于基板上,焊线连接下芯片与基板。
然而,从上芯片到基板的电性路径依序经过焊球、下芯片及焊线,如此长的电性路径将导致处理信号的效率无法有效提升。
发明内容
本发明有关于一种半导体封装件及其制造方法,半导体封装件的芯片到基板的电性路径短,可加速处理信号的效率。
根据本发明的第一方面,提出一种半导体封装件,半导体封装件包括一第一基板、一第二基板、一第一芯片及一第二芯片;第二基板设于第一基板上并定义一容置空间;第二基板包括一基材、一导通孔结构及一绝缘结构;基材具有一贯孔,导通孔结构形成于贯孔内,绝缘结构隔离该导通孔结构与基材;第一芯片设于第二基板上且具有一周缘部,周缘部的位置对应于第二基板;第二芯片连接于第一芯片上且位于容置空间内。
根据本发明的第一方面,提出一种半导体封装件的制造方法。制造方法包括以下步骤。提供一第一基板;提供一第二基板,其中第二基板定义一容置空间且包括一基材、一导通孔结构及一绝缘结构,基材具有一贯孔,导通孔结构形成于贯孔内,绝缘结构隔离导通孔结构与基材;提供一第一芯片,其中第一芯片具有一周缘部;提供一第二芯片;连接第一芯片、第二芯片、第一基板及第二基板,其中第二基板设于第一基板上,第一芯片设于第二基板上,第一芯片的周缘部的位置对应于第二基板,第二芯片连接于第一芯片上且位于容置空间内;以及,形成一封装体包覆第一芯片、第二芯片及第二基板。
为了对本发明的上述及其它方面有更佳的了解,下文特举较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1绘示依照本发明一实施例的半导体封装件的剖视图。
图2绘示图1中局部2’的放大剖视图。
图3绘示图1中第一芯片、第二芯片及第二基板的上视图。
图4绘示另一实施例的第一芯片、第二芯片与第二基板的设置型态示意图。
图5绘示再一实施例的第一芯片、第二芯片与第二基板的设置型态示意图。
图6绘示又一实施例的第一芯片、第二芯片与第二基板的设置型态示意图。
图7绘示依照本发明较佳实施例的半导体封装件的制造方法流程图。
主要组件符号说明:
100、200、300、400:半导体封装件
102:第一基板
104、204、304a、304a1、304a2、304a3、404:第二基板
106、206、306、406:第一芯片
106a、206a、306a、306a1、306a2、306a3:周缘部
104b、106b:下表面
102c、108c:上表面
108:第二芯片
110:第一电性接点
112:第二电性接点
114:第三电性接点
116:芯片堆栈结构
118:封装体
102s、118s:外侧面
120:基材
122:导通孔结构
124a、124b:绝缘结构
126、226、326、426:容置空间
128:贯孔
130:第一面
132:第二面
134:第一介电层
136:第二介电层
138:第一导电层
140:第二导电层
142、446:外侧面
具体实施方式
请参照图1,其绘示依照本发明一实施例的半导体封装件的剖视图。半导体封装件100包括第一基板102、至少一第二基板104、第一芯片106、第二芯片108、多个第一电性接点110、多个第二电性接点112、多个第三电性接点114及封装体118。其中,第一电性接点110、第二电性接点112及第三电性接点114例如是焊球(solder ball)、导电柱(conductive pillar)或接垫(pad)。
第一基板102例如是多层板。即,第一基板102具有沿厚度方向配置的数层线路层,该些线路层的二层以导电结构电性连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010585051.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型GaAs肖特基二极管及其制作方法
- 下一篇:接触孔的形成方法
- 同类专利
- 专利分类