[发明专利]壳体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制造方法。

背景技术

真空镀膜技术(PVD)是一种非常环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高防磨性的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点，因此真空镀膜在铝、铝合金及不锈钢等金属基材表面装饰性处理领域的应用越来越广。

然而，由于铝、铝合金、镁或镁合金的标准电极电位很低，与PVD镀层，如TiN层、TiN层或CrN层的电位差较大，且PVD镀层本身不可避免的会存在微小的孔隙，如针孔、裂纹，致使铝、铝合金、镁或镁合金基体易于发生微电池腐蚀。因此，直接于铝、铝合金、镁或镁合金基体表面镀覆所述TiN层、TiN层或CrN层并不能有效提高所述铝、铝合金、镁或镁合金基体的耐腐蚀性能，同时该PVD镀层本身也会发生异色、脱落等现象，难以维持良好的装饰外观。

发明内容

鉴于此，提供一种具有良好的耐腐蚀性的壳体。

另外，还提供一种上述壳体的制造方法。

一种壳体，包括铝/镁金属基体，于该铝/镁金属基体表面磁控溅射防腐蚀层，所述防腐蚀层包括依次形成于铝/镁金属基体表面的铝铜膜和氮化铝梯度膜，所述氮化铝梯度膜中N原子的数量百分含量由靠近铝/镁金属基体至远离铝/镁金属基体的方向呈梯度增加。

一种壳体的制造方法，包括以下步骤：

提供铝/镁金属基体；

在该铝/镁金属基体上磁控溅射防腐蚀层，所述防腐蚀层包括依次形成于铝/镁金属基体表面的铝铜膜和氮化铝梯度膜，所述氮化铝梯度膜中N原子的原子百分含量由靠近铝/镁金属基体至远离铝/镁金属基体的方向呈梯度增加。

所述壳体的制造方法，通过磁控溅射法依次于铝/镁金属基体上形成防腐蚀层及具有装饰性的色彩层。所述防腐蚀层包括依次形成于铝/镁金属基体表面的铝铜膜和氮化铝梯度膜，一方面，铝铜膜自身有很好的耐腐蚀性能，另一方面铝铜膜与铝/镁金属基体之间的电位差小，减缓了壳体发生微电池腐蚀的速率，此外，铝铜膜中铝和铜的形核能不同，在铝铜膜的形成过程中两者之间相互抑制而使膜层的晶粒更小，膜层变得致密，从而提高了壳体的耐腐蚀性。所述氮化铝梯度膜可降低与铝铜膜或铝/镁金属基体之间晶格不匹配的程度，可改善与铝/镁金属基体之间的界面错配度，并可以借助于该铝铜膜以及铝/镁金属基体的局部塑性变形实现残余应力的释放，从而减少所述氮化铝梯度膜内的残余应力，使壳体不易发生应力腐蚀，在所述壳体防腐蚀性提高的同时，还可避免所述壳体上形成的色彩层发生异色、脱落等失效现象，从而使该壳体经长时间使用后仍具有较好的装饰性外观。

附图说明

图1为本发明较佳实施例的壳体的剖视图。

图2是图1产品的制作过程中所用镀膜机结构示意图。

主要元件符号说明

壳体                10

铝/镁金属基体       11

防腐蚀层            13

铝铜膜              131

氮化铝梯度膜        133

色彩层              15

真空泵              20

轨迹            21

第一靶材        22

第二靶材        23

气源            24

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括铝/镁金属基体11、依次形成于该铝/镁金属基体11上的防腐蚀层13及色彩层15。该壳体10可以为3C电子产品的壳体，也可为工业、建筑用件及汽车等交通工具的零部件等。

所述铝/镁金属基体11的材质为铝、铝合金、镁或镁合金。

所述防腐蚀层13包括铝铜膜131和氮化铝梯度膜133，所述铝铜膜131形成于铝/镁金属基体11的表面，所述氮化铝梯度膜133形成于铝铜膜131的表面。所述铝铜膜131的厚度为1.0～3.0μm；所述氮化铝梯度膜133的厚度为0.5～1.0μm。所述氮化铝梯度膜中N原子的数量百分含量由靠近铝/镁金属基体至远离铝/镁金属基体的方向呈梯度增加。

所述色彩层15为氮钛膜层，其厚度为1.0～3.0μm。可以理解，所述色彩层15还可以为氮铬膜层或其他具有装饰性的膜层。

所述防腐蚀层13及色彩层15均可通过磁控溅射法沉积形成。