[发明专利]富有机硒西瓜及其生产方法

权利要求书

1.一种富有机硒西瓜，其特征在于所述富有机硒西瓜的有机硒含量为4.8～350μg/kg，且有机硒占总硒比例≥70％。

2.根据权利要求1所述的富有机硒西瓜，其特征在于所述富有机硒西瓜的有机硒含量为5～300μg/kg，，且有机硒占总硒比例≥70％。

3.根据权利要求1所述的富有机硒西瓜，其特征在于所述富有机硒西瓜的有机硒含量为10～300μg/kg，，且有机硒占总硒比例≥70％。

4.根据权利要求1所述的富有机硒西瓜，其特征在于所述富有机硒西瓜的有机硒含量为10～200μg/kg，，且有机硒占总硒比例≥80％。

5.根据权利要求1所述的富有机硒西瓜，其特征在于所述富有机硒西瓜的有机硒含量为10～200μg/kg，，且有机硒占总硒比例≥85％。

6.根据权利要求1所述的富有机硒西瓜，其特征在于所述富有机硒西瓜的有机硒含量10～50μg/kg。

7.一种富有机硒西瓜的生产方法，所述富有机硒西瓜按照常规栽培方法进行栽培，其特征在于所述方法还包括在西瓜的开花期或挂果期时，以每亩0.5～10千克的用量将纳米硒植物营养剂施入到瓜田中的步骤。

8.根据权利要求7所述的生产方法，其特征在于所述方法中纳米硒植物营养剂的施用方式为在每行瓜藤相邻两株瓜秧间开挖斜坑，将纳米硒植物营养剂均匀撒施在斜坑的斜面上并覆土。

9.根据权利要求8所述的生产方法，其特征在于所述方法中所述斜坑斜面与水平地面大致呈60°夹角。

10.根据权利要求7所述的生产方法，其特征在于所述方法中纳米硒植物营养剂的施用时机为下小雨前或者施肥后，并对瓜地进行一次浅层灌溉。