[发明专利]激光晶体波导谐振腔、波导腔激光器及二者的制作工艺

权利要求书

1.一种激光晶体波导谐振腔，其特征在于，所述激光晶体波导谐振腔包括：折射率渐变的激光晶体第一基片和第二基片，泵浦光进入的表面和激光出射的表面；

折射率渐变的激光晶体第一基片和第二基片的键合处的折射率最大，泵浦光进入的表面和激光出射的表面抛光后镀上对激光工作波长的高反射介质膜。

2.根据权利要求1所述的激光晶体波导谐振腔，其特征在于，所述泵浦光进入的表面还镀上对泵浦波长的增透介质膜。

3.根据权利要求1所述的激光晶体波导谐振腔，其特征在于，所述泵浦光进入的表面为激光晶体波导谐振腔的端面，表面或者侧面中之一。

4.一种波导腔激光器，其特征在于，所述波导腔激光器包括：高功率激光二极管，激光输出整形透镜和权利要求1至3任一项所述的激光晶体波导谐振腔；

所述高功率激光二极管与光学输入耦合透镜相对设置，所述高功率激光二极管输出的泵浦光通过光学输入耦合透镜从所述泵浦光进入的表面耦合进入激光晶体波导谐振腔中，再所述激光出射的表面输出激光，并经过激光输出整形透镜整形输出。

5.一种激光晶体波导谐振腔的制作工艺，其特征在于，包括：

1)将折射率渐变的激光晶体基片的一个表面抛光，从抛光面沿其法线方向，激光晶体基片的折射率渐变；

2)将激光晶体基片沿抛光面的法线方向切割成两片基片，并把两片基片的抛光面深化光胶键合，得到键合好的元件；

3)把键合好的元件的泵浦光进入的表面抛光，并在泵浦光进入的表面镀上对激光工作波长的高反射介质膜以形成激光晶体波导谐振腔。

6.根据权利要求5所述的激光晶体波导谐振腔的制作工艺，其特征在于，从抛光面沿其法线方向，所述激光晶体基片的折射率逐渐减少。

7.根据权利要求5所述的激光晶体波导谐振腔的制作工艺，其特征在于，所述泵浦光进入的表面还镀上对泵浦波长的增透介质膜。

8.根据权利要求5所述的激光晶体波导谐振腔，其特征在于，所述泵浦光进入的表面为激光晶体波导谐振腔的端面，表面或者侧面中之一。

9.一种波导腔激光器的制作工艺，其特征在于，包括：

1)权利要求5至8的任一项所述的步骤；

2)在激光晶体波导谐振腔的泵浦光进入的表面前设置光学输入耦合透镜；

3)在光学输入耦合透镜非激光晶体波导谐振腔的一端，设置LD；

4)在激光晶体波导谐振腔的激光出射的表面前设置激光输出整形透镜。