[发明专利]一种提高硅的提取效率的方法无效

专利信息
申请号: 201010566643.4 申请日: 2010-12-01
公开(公告)号: CN102079522A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 陈梦君;姜鹏飞;陈海焱;谌书;严翠平 申请(专利权)人: 西南科技大学
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 621000 四川省绵*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 提取 效率 方法
【说明书】:

(一)技术领域 本发明涉及硅,特别设计一种提高硅的提取效率的方法。

(二)背景技术 晶体硅为灰黑色,属于原子晶体,硬而有金属光泽,有半导体性质。硅的化学性质比较活泼,在高温下能与氧等多种元素化合,不溶于水、硝酸和盐酸,溶于氢氟酸和碱液,用于制造合金如硅铁、硅钢等,单晶硅是一种重要的半导体材料,用于制造大功率晶体管、整流器、太阳能电池等。

硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃是当前我国一类非常典型的固体废物,目前一般用作生产水泥。由于硅酸盐所特有的玻璃网状结构具有良好的化学稳定性,很难利用传统冶金的方法和原理直接从中硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃中提取硅。目前从中硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃中提取硅时,一般先将其与固体氢氧化钠混合,然后加热到一定温度如600℃熟化一段时间,再以水作为溶剂进行浸提。与氢氧化钠溶液直接浸提法相比,尽管此法能在一定程度上提高取效率,但其提取效率仍然较低,温度高,能耗大,且需要一至两天的时间。这些方法都不能很好地解决硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃中硅的提取问题。

近来研究表明亚临界或超临界水能将飞灰中的玻璃颗粒打碎,即亚临界或超临界水对玻璃颗粒具有破碎作用;另外,在亚临界或超临界条件下,水分子很容易地扩散到玻璃中与其碱金属氧化物(Si-O-Na+)发生反应形成OH-离子(Si-OH+Na++OH-),OH-会使玻璃网络的≡Si-O-Si≡键发生断裂生成(Si-OH+Na+O-Si)。因此,亚临界或超临界水能有效地破坏玻璃的网状结构。

(三)发明内容

1、发明目的;本发明的目的旨在克服上述现有技术中的不足,提供一种从硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃中快速提取硅的方法。

2、技术方案:本发明的技术方案是:一种提高硅的提取效率的方法,依次包括如下步骤:将原料破碎至粒径1~2mm;再将其与NaOH混合均匀,放入高压反应釜中,加入水,控制高压反应釜反应温度为250-420℃,反应压强0.2MPa,釜内搅拌速度为500r/min,反应1-5h;开启釜体冷却系统,冷却至室温,过滤分离得到硅液。

3、有益效果:与现有技术相比,本发明具有下列特点和有益效果:①本发明以硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃为原料,采用亚/超临界水-NaOH提取工艺,克服了常规提取硅过程中效率低,能耗大,耗时长等缺陷,制备得到硅;结果表明硅的提取率为86.54%;②工艺操作简便、易于控制、生产成本低,且工艺过程对环境无污染;③工艺对制备硅的硅酸盐矿渣、尾矿、等难溶矿物或玻璃原料成分无严格要求,适用范围广;所制备的产品可广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、化工、纺织、食品、轻工、医疗等行业,具有广阔的应用前景。

(四)附图说明 说明书附图是本发明的工艺流程图。

(五)具体实施方式 下面是本发明的几个具体实施实例。本发明不限于这些实施例。

实施例1:以电子垃圾彩色阴极射线显示器屏玻璃为原料,先用机械破碎法将其破碎至约1~3cm,再进一步用行星式球磨机破碎至粒径小于0.5mm。取5g玻璃粉,加入5gNaOH混合均匀,放入200mL的高压反应釜中,加入120mL水。控制高压反应釜反应温度为420℃,反应压强0.2MPa,釜内搅拌速度为500r/min,反应1h;开启釜体冷却系统,冷却至室温,过滤分离,用电感耦合等离子体光谱仪(OPTIMA 2000)分析溶液和反应前样品及反应后残渣(固体采用HNO3/HClO4/HF法消解)中硅的分布。结果表明硅的提取率为86.54%,其浓度为9.65g/L。

实施例2:取等离子体显示器玻璃为原料,粗破碎至约1~3cm,再用行星式球磨机破碎至粒径1~2mm。取5g玻璃粉,加入10g NaOH混合均匀,放入200mL的高压反应釜中,加入120mL水,控制高压反应釜反应温度为300℃,反应压强0.2MPa,釜内搅拌速度为500r/min,反应3h;开启釜体冷却系统,冷却至室温,过滤分离,得到硅液。

实施例3:以硅酸盐矿渣为原料,先用机械破碎法将其破碎至约1~3cm,再进一步用行星式球磨机破碎至粒径0.5~1mm。取5g矿渣,加入20g NaOH混合均匀,放入200mL的高压反应釜中,加入120mL水。控制高压反应釜反应温度为250℃,反应压强0.2MPa,釜内搅拌速度为500r/min,反应5h;开启釜体冷却系统,冷却至室温,过滤分离,得到硅液。

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