[发明专利]曝光头和图像形成装置

权利要求书

1.一种曝光头，其特征在于，具有：

发光元件阵列，其具有被配置在第1方向上的发光元件；

遮光部件，其具有使所述发光元件发射的光通过的孔径光阑；

成像光学系统，其对通过所述遮光部件的光进行成像；

其中，所述成像光学系统在所述第1方向上的放大倍率的绝对值在0.7倍以上且在0.8倍以下。

2.如权利要求1所述的曝光头，其中，

所述成像光学系统具有第1透镜以及第2透镜，

由所述发光元件发射的光，透过所述第1透镜之后接着透过所述第2透镜，从而被成像。

3.如权利要求1至2中任意一项所述的曝光头，其中，

所述成像光学系统为变形光学系统。

4.如权利要求2或者3所述的曝光头，其中，

所述第1透镜以及所述第2透镜为树脂透镜。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的曝光头，其中，

所述发光元件为有机EL元件，

所述发光元件阵列具有：配置有所述有机EL元件的玻璃制的头基板、和用于对所述有机EL元件进行密封的密封部件。

6.如权利要求5所述的曝光头，其中，

所述发光元件阵列为底部发射型的有机EL元件阵列。

7.如权利要求5或者6所述的曝光头，其中，

具有对所述有机EL元件进行驱动的驱动电路，并且所述驱动电路被配置在所述头基板上。

8.一种图像形成装置，其特征在于，具有：

潜像载体，潜像形成在该潜像载体上；

曝光头，具有：发光元件阵列，其具有被配置在第1方向上的发光元件；遮光部件，其具有使所述发光元件发射的光通过的孔径光阑；成像光学系统，其使通过所述遮光部件的光透过，以对所述潜像载体进行曝光，所述成像光学系统在所述第1方向上的放大倍率的绝对值在0.7倍以上且在0.8倍以下；

显影部，其对通过所述曝光头而形成在所述潜像载体上的所述潜像进行显影。