[发明专利]真空镀膜件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010560964.3 申请日: 2010-11-26
公开(公告)号: CN102477529A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张满喜 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/34
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地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空镀膜 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种真空镀膜件及其制造方法,尤其涉及一种具有天蓝色与金属质感的真空镀膜件及其制造方法。

背景技术

随着科技的不断进步,手机、个人数字助理(PDA,Personal Digital Assistant)、及计算机等各式电子装置也迅速发展,其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳,或藉由喷漆方式在电子装置的外壳表面形成颜色层。然而,塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金属质感。另一方面,由于真空镀膜技术本身较为复杂而不易精密操控,现有技术中于外壳表面形成的金属真空镀膜层的色彩有限,与烤漆、阳极处理等工艺相比,真空镀膜层的颜色不够丰富,严重限制了其在装饰镀膜领域的竞等力。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种具有天蓝色及金属质感的真空镀膜件。

另外,本发明还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。

一种真空镀膜件,包括基体及形成于基体上的颜色层,所述颜色层为Ti-O-N膜,该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于50至60之间,a*坐标值介于-3至-2之间,b*坐标值介于-6至-10之间。

一种真空镀膜件的制造方法,其包括如下步骤:

提供基体;

采用一钛靶,以氧气及氮气为反应气体,氧气的流量为15~20sccm,氮气的流量为80~100sccm,在所述基体上溅射形成颜色层;所述颜色层为Ti-O-N膜,所述颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于50至60之间,a*坐标值介于-3至-2之间,b*坐标值介于-6至-10之间。

所述真空镀膜件的制造方法,在形成颜色层时,采用钛靶作为靶材,通过对反应气体氮气和氧气的流量的控制,实现所需的颜色层中各成分的比例关系及各成分间的微观键合结构,从而达到使颜色层呈现出天蓝色的目的。以该方法所制得的真空镀膜件可呈现出具吸引力的天蓝色的金属外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1是本发明较佳实施例的真空镀膜件的结构示意图。

主要元件符号说明

真空镀膜件    10

基体          11

衬底层        13

颜色层        15

具体实施方式

请参阅图1,本发明一较佳实施例的真空镀膜件10可为一手机的外壳。该真空镀膜件10包括基体11、衬底层13及颜色层15。该衬底层13设置于基体11的表面,该颜色层15设置于衬底层13的表面。

基体11为可以为金属材料或玻璃、塑料等非金属材料。

所述衬底层13以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该衬底层13为钛层,其厚度为50~100nm。该衬底层13的颜色为不影响颜色层颜色的浅色调,比如可为银色、白色及灰白色等浅色调。

所述颜色层15为Ti-O-N膜,其以磁控溅射的方式形成。该颜色层15的厚度为200~350nm。该颜色层15由肉眼直观呈现出天蓝色,而其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于50至60之间,a*坐标值介于-3至-2之间,b*坐标值介于-6至-10之间。

上述真空镀膜件10的制造方法主要包括如下步骤:

提供基体11。该基体11可以为金属材料或玻璃、塑料等非金属材料。

对该基体11进行预处理。该预处理可包括常规的对基体11进行化学除油、除蜡、酸洗、超声波清洗及烘干等步骤。

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