[发明专利]真空镀膜件及其制造方法有效
| 申请号： | 201010560964.3 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102477529A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张满喜 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 及其 制造 方法 | ||
1.一种真空镀膜件，包括基体及形成于基体上的颜色层，其特征在于：所述颜色层为Ti-O-N膜，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于50至60之间，a*坐标值介于-3至-2之间，b*坐标值介于-6至-10之间。
2.如权利要求1所述的真空镀膜件，其特征在于：所述颜色层的厚度为200～350nm。
3.如权利要求1或2所述的真空镀膜件，其特征在于：该颜色层呈现天蓝色。
4.如权利要求1所述的真空镀膜件，其特征在于：所述真空镀膜件还包括形成于基体与颜色层之间的衬底层，该衬底层为钛层。
5.如权利要求4所述的真空镀膜件，其特征在于：所述衬底层的厚度为50～100nm。
6.如权利要求1所述的真空镀膜件，其特征在于：所述基体为金属材料、玻璃或塑料。
7.一种真空镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
采用一钛靶，以氧气及氮气为反应气体，氧气的流量为15～20sccm，氮气的流量为80～100sccm，在所述基体上溅射形成颜色层；所述颜色层为Ti-O-N膜，所述颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于50至60之间，a*坐标值介于-3至-2之间，b*坐标值介于-6至-10之间。
8.如权利要求7所述的真空镀膜件的制造方法，其特征在于：形成该颜色层时，钛靶的电源功率为7～10kw，对基体施加的偏压为-150～-250V，占空比为50～70％，溅射温度为80～120℃，溅射时间为20～40min。
9.如权利要求7所述的真空镀膜件的制造方法，其特征在于：该真空镀膜件的制造方法还包括在形成颜色层前在基体上溅射形成衬底层的步骤。
10.如权利要求9所述的真空镀膜件的制造方法，其特征在于：所述衬底层为钛层，形成该衬底层的工艺参数为：以氩气为工作气体，设置其流量为100～250sccm，采用钛靶作为靶材，设置其电源功率为7～10kw，对基体施加的偏压为-150～-250V，占空比为50～70％，溅射温度为80～120℃，溅射时间为5～10min。
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