[发明专利]离子注入装置及束电流密度分布的调整方法

说明书

技术领域

本发明涉及使由多个带状离子束照射的区域重叠，在玻璃基板上形成规定的注入量分布的离子注入装置以及在该离子注入装置中使用的束电流密度分布的调整方法。

背景技术

近年来，以液晶电视为代表的液晶产品的大型化非常显著。在半导体制造工序中，为了在一个处理工序中处理更多的液晶面板，进行了增大玻璃基板的尺寸，并从大型的玻璃基板获得多块液晶面板的尝试。对于作为半导体制造装置之一的离子注入装置，要求要与这样的大型的玻璃基板相适应。

为了应对这样的要求，至今为止开发了专利文献1所记载的离子注入装置。

在专利文献1中公开了：使用比玻璃基板的尺寸小的两个离子束，对玻璃基板的整个面实施离子注入处理的技术。更具体地说，在专利文献1中，作为一个例子，把相互垂直的三个方向(X、Y及Z方向)分别定义为离子束的短边方向、离子束的长边方向及离子束的行进方向。两个离子束在X方向上位于相互离开的位置，在Y方向上使双方的中心位置相互错开，使得在玻璃基板上由各离子束照射的区域部分重叠，在对玻璃基板实施离子注入处理的处理室内进行照射。此外，通过以横穿这样的离子束的方式，沿X方向输送玻璃基板，可以沿玻璃基板的整个面实现离子注入处理。

专利文献1中所记载的技术的玻璃基板的输送速度是一定的。由于要沿玻璃基板的整个面实现均匀的注入量分布，所以照射在玻璃基板上的离子束的电流密度分布，如专利文献1中的图6所示，要调整成包括两个离子束重迭的区域，沿Y方向整体为大体均匀的电流密度分布。

专利文献1：日本专利公开公报特开2009-152002号(图1、图3、图6及0077～0088段)

通常，在离子束重迭区域中的束电流密度分布的调整，与调整一个离子束的束电流密度分布的情况相比，作为调整对象的参数的个数多而且复杂。在调整复杂的情况下，如果胡乱地进行调整，则到调整结束为止需要相当长的时间。此外，如果调整束电流密度分布花费大量时间，则还会产生导致离子注入装置的生产率(处理能力)降低的问题。

可是，在专利文献1中，对于在离子束重迭区域的束电流密度分布的调整，只是记载了把离子束重迭区域的束电流密度分布调整成与其它区域(未重迭的区域)中的束电流密度分布大体相等，并未公开具体怎样进行调整才能成为高效的调整。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的主要目的在于提供一种具有用于在多个离子束重叠的区域能够高效地调整各离子束的束电流密度的控制装置的离子注入装置以及在该离子注入装置中使用的束电流密度的调整方法。

即，本发明提供一种离子注入装置。其特征在于包括：m个离子束供给装置，提供m个带状离子束，其中m为2以上的整数；束轮廓仪，设置于处理室内，分别测定所述m个带状离子束在长边方向上的束电流密度分布；束电流密度分布调整部件，按照每个所述离子束供给装置分别设置，用于调整用所述束轮廓仪测定的所述束电流密度分布；玻璃基板输送机构，在所述处理室内，以与所述m个带状离子束的长边方向交叉的方式输送玻璃基板；以及控制装置，控制所述束电流密度分布调整部件，在由所述玻璃基板输送机构输送的所述玻璃基板上，使由所述m个带状离子束照射的区域至少部分重叠，实现预先规定的注入量分布，所述控制装置对所述m个带状离子束分别设定作为所述束电流密度分布的调整目标的目标分布，并按照预先决定的顺序，控制到第m-1个为止的所述带状离子束的所述束电流密度分布，使得该束电流密度分布相对于对各个带状离子束设定的所述目标分布进入第一容许范围内，而且所述控制装置根据将到第m-1个为止的所述带状离子束调整后的束电流密度分布合计所得到的束电流密度分布与将对到第m个为止的所述带状离子束设定的所述目标分布合计所得到的束电流密度分布之间的差，设定用于调整第m个所述带状离子束的所述束电流密度分布的新的目标分布，并控制所述第m个所述带状离子束的束电流密度分布，使得该第m个所述带状离子束的束电流密度分布相对于所述新的目标分布进入比所述第一容许范围小的第二容许范围内。