[发明专利]被覆件及其制造方法无效
| 申请号: | 201010523215.3 | 申请日: | 2010-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN102453856A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
| 发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;胡智杰 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/46 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 被覆 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种被覆件及其制造方法。
背景技术
PVD镀膜工艺在工业领域有着广泛的应用,其中,TiN、TiAlN薄膜镀覆在刀具或模具表面能大幅提高刀具和模具的使用寿命。然而,随着金属切削加工朝高切削速度、高进给速度、高可靠性、长寿命、高精度和良好的切削控制性方面发展,对表面涂层的性能提出了更高的要求。传统的TiN、TiAlN涂层在硬度、耐磨性及润滑性等方面已经不能满足要求。
研究发现,在TiN中掺入Si可以进一步提高其硬度,但是韧性较低,在用于切削高硬度材料时,刀具的刃口易产生卷刃。
发明内容
鉴于此,提供一种具有良好的硬度、耐磨性及润滑性的被覆件。
另外,还提供一种上述被覆件的制造方法。
一种被覆件,包括基体及形成于该基体上的梯度润滑层,所述梯度润滑层为TiAlMoN层,所述梯度润滑层中N原子的百分含量由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增加。
一种被覆件的制造方法,其包括如下步骤:
提供基体;
以氮气为反应气体,采用钛铝复合靶及钼靶为靶材,通过电弧离子镀膜法于该基体的表面形成梯度润滑层,所述梯度润滑层中N原子的百分含量由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增加。
在所述梯度润滑层的形成过程中,Mo元素的加入可抑制TiN、AlN晶粒的长大,使得梯度润滑层中的TiN、AlN晶粒的粒径维持在纳米级,从而显著地提高了所述梯度润滑层的硬度、韧性及致密性。所述梯度润滑层的硬度及韧性的提高,可显著地提高所述被覆件的耐磨性。
此外,Mo元素的加入还可降低所述梯度润滑层的摩擦系数,使梯度润滑层具有较好的润滑性,从而减轻所述被覆件的表面摩擦。当被覆件为切削刀具时,可降低切削刀具与切屑之间的粘附性,起到减少切削热的作用,使其加工硬度较低的材料以及粘性较大的材料时更具优势。
附图说明
图1是本发明较佳实施方式被覆件的剖视示意图。
主要元件符号说明
被覆件 10
基体 11
结合层 13
梯度润滑层 15
具体实施方式
请参阅图1,本发明一较佳实施例的被覆件10包括基体11及形成于该基体11表面的梯度润滑层15。该基体11的材质可以为高速钢、硬质合金及不锈钢等。该被覆件10可以为各类切削刀具、精密量具、模具、3C电子产品外壳及各种建筑装饰件等。
所述梯度润滑层15为TiAlMoN层。所述梯度润滑层15中N原子的百分含量由靠近基体11至远离基体11的方向呈梯度增加。所述梯度润滑层15的厚度为0.7~3.0μm,其可通过电弧离子镀膜法形成。
该被覆件10还包括形成于该基体11与梯度润滑层15之间的结合层13。该结合层13为TiAl层。所述结合层13的形成用以增强所述梯度润滑层15与基体11之间的结合力。所述结合层13的厚度为50~200nm。
所述被覆件10的制造方法主要包括如下步骤:
提供基体11,该基体11可以通过冲压成型得到,其具有待制得的被覆件10的结构。
将所述基体11放入盛装有乙醇及/或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗,以除去基体11表面的杂质和油污。清洗完毕后烘干备用。
再对基体11的表面进行氩气等离子体清洗,进一步去除基体11表面的油污,以改善基体11表面与后续涂层的结合力。对基体11的表面进行氩气等离子体清洗的方法包括如下步骤:将基体11放入一电弧离子镀膜机(图未示)的镀膜室内的工件架上,对该镀膜室进行抽真空处理至真空度为3.0×10-3Pa,以300~500sccm(标准状态毫升/分钟)的流量向镀膜室内通入纯度为99.999%的氩气(工作气体),于基体11上施加-300~-800V的偏压,在所述镀膜室中形成高频电压,使所述氩气发生离子化而产生氩气等离子体对基体11的表面进行物理轰击,而达到对基体11表面清洗的目的。所述氩气等离子体清洗的时间为3~10min。
采用电弧离子镀膜法的方式在基体11表面依次形成结合层13及梯度润滑层15。所述结合层13为TiAl层,所述梯度润滑层15为TiAlMoN层,该梯度润滑层15中N原子的百分含量由靠近基体11至远离基体11的方向呈梯度增加。形成该结合层13及梯度润滑层15的具体操作方法及工艺参数为:
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