[发明专利]III族氮化物半导体光元件、外延衬底及III族氮化物半导体发光元件的制作方法无效
申请号: | 201010501542.9 | 申请日: | 2010-09-30 |
公开(公告)号: | CN102034910A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 上野昌纪;盐谷阳平;京野孝史;善积祐介 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00;H01S5/343 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | iii 氮化物 半导体 元件 外延 衬底 发光 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及III族氮化物半导体光元件、外延衬底及III族氮化物半导体光元件的制作方法。
背景技术
在非专利文献1中,记载了包含氮化镓基半导体的发光二极管。该发光二极管在GaN的(11-22)面上制作。发光二极管的发光波长为从蓝色至棕色的约420nm、约520nm及约620nm的波长。
非专利文献2中,记载了包含氮化镓基半导体的激光二极管。该激光二极管在GaN的m面上制作。激光二极管的发光波长为499.8nm。
在专利文献1中,记载了在GaN衬底的{11-22}面上制作的激光二极管。该激光二极管的振荡波长记述为480nm~650nm。
专利文献1:日本特开2009-71127号公报
非专利文献1:Japanese Journal ofApplied Physics,Vol.45,No.26,2006,pp.L659-L662
非专利文献2:APPLIED PHYSICS LETTERS 94,2009,071105
根据本发明人的研究,在GaN的m面及GaN的{11-22}面上生长含有铟作为III族元素的氮化镓基半导体例如InGaN时,这些面取向虽然在铟结合能力方面优良,但是生长的InGaN膜的In含量的波动大。因此,发光光谱的半幅值大。另外,使用氮化镓基半导体的激光二极管,不仅实现了蓝色激光,也实现了绿色激光。为了将发光波长的范 围扩大至更长波长的发光,要求在较宽的铟含量的范围内生长含量波动更小的阱层。另外,一般认为长波长的发光对In含量的波动的影响更敏感。
发明内容
本发明是鉴于这种情况而做出的,其目的在于,提供包含In含量较高且In含量波动小的阱层的III族氮化物半导体光元件,或者提供用于该III族氮化物半导体光元件的外延衬底,另外,提供III族氮化物半导体发光元件的制作方法。
本发明的一个方面的III族氮化物半导体光元件,具备:(a)衬底,其包含III族氮化物半导体;(b)第一III族氮化物半导体区域,其设置在所述衬底的主面上;(c)第二III族氮化物半导体区域,其设置在所述衬底的所述主面上;(d)有源层,其设置在所述第一III族氮化物半导体区域和所述第二III族氮化物半导体区域之间。所述衬底的所述主面从与沿该III族氮化物半导体的c轴延伸的基准轴正交的面起,以63度以上且小于80度的范围的倾斜角向该III族氮化物半导体的m轴方向倾斜,所述第一III族氮化物半导体区域包含第一导电型半导体层,所述第二III族氮化物半导体区域包含第二导电型半导体层,所述第一III族氮化物半导体区域、所述有源层及所述第二III族氮化物半导体区域沿所述衬底的所述主面的法线轴方向排列,所述有源层包含半导体外延层,所述半导体外延层包含氮化镓基半导体,所述氮化镓基半导体含有铟作为III族构成元素,所述半导体外延层的铟含量为0.35以上且0.65以下,所述氮化镓基半导体的c轴相对所述法线轴倾斜,所述基准轴的方向为所述III族氮化物半导体的[0001]轴及[000-1]轴的任一轴的方向。
根据该III族氮化物半导体光元件,有源层具有含有铟作为III族构成元素的半导体外延层,并且产生580nm以上且800nm以下的波长范围的光。另外,该有源层设置在包含III族氮化物半导体的衬底主面 上,衬底主面从与沿该III族氮化物半导体的c轴延伸的基准轴正交的面起,以63度以上且小于80度的范围的倾斜角向该III族氮化物半导体的m轴方向倾斜。因此,虽然半导体外延层的铟含量为0.35以上且0.65以下,但是半导体外延层的In含量波动小。
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