[发明专利]III族氮化物半导体光元件、外延衬底及III族氮化物半导体发光元件的制作方法无效
申请号: | 201010501542.9 | 申请日: | 2010-09-30 |
公开(公告)号: | CN102034910A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 上野昌纪;盐谷阳平;京野孝史;善积祐介 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00;H01S5/343 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | iii 氮化物 半导体 元件 外延 衬底 发光 制作方法 | ||
1.一种III族氮化物半导体光元件,其中,具备:
衬底,其包含III族氮化物半导体;
第一III族氮化物半导体区域,其设置在所述衬底的主面上;
第二III族氮化物半导体区域,其设置在所述衬底的所述主面上;和
有源层,其设置在所述第一III族氮化物半导体区域和所述第二III族氮化物半导体区域之间,
所述衬底的所述主面从与沿该III族氮化物半导体的c轴延伸的基准轴正交的面起,以63度以上且小于80度的范围的倾斜角向该III族氮化物半导体的m轴方向倾斜,
所述第一III族氮化物半导体区域包含第一导电型半导体层,
所述第二III族氮化物半导体区域包含第二导电型半导体层,
所述第一III族氮化物半导体区域、所述有源层及所述第二III族氮化物半导体区域沿所述衬底的所述主面的法线轴方向排列,
所述有源层以产生580nm以上且800nm以下的波长范围的光的方式设置,
所述有源层包含半导体外延层,
所述半导体外延层包含氮化镓基半导体,
所述氮化镓基半导体含有铟作为III族构成元素,
所述半导体外延层的铟含量为0.35以上且0.65以下,
所述氮化镓基半导体的c轴相对于所述法线轴倾斜,
所述基准轴的方向为所述III族氮化物半导体的[0001]轴及[000-1]轴的任一轴的方向。
2.如权利要求1所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述衬底的所述主面从与所述基准轴正交的面起,以70度以上的角度向该III族氮化物半导体的m轴方向倾斜。
3.如权利要求1或2所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述衬底的所述主面从与所述基准轴正交的面起,以71度以上且79度以下的角度向该III族氮化物半导体的m轴方向倾斜。
4.如权利要求1~3中任一项所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述III族氮化物半导体的a轴方向的偏角不为零,或在-3度以上且+3度以下的范围内。
5.如权利要求1~4中任一项所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述衬底的所述主面是从该III族氮化物半导体的{20-21}面及{20-2-1}面中的任一面起,以-3度以上且+3度以下的范围的角度向该III族氮化物半导体的m轴方向倾斜的半导体面。
6.如权利要求1~5中任一项所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述有源层具有单量子阱结构。
7.如权利要求1~6中任一项所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述有源层以产生大于650nm且为800nm以下的波长范围的光的方式设置。
8.如权利要求1~7中任一项所述的III族氮化物半导体光元件,其中,还具备:
第一光导层,其设置在所述有源层和所述第一III族氮化物半导体区域之间;和
第二光导层,其设置在所述有源层和所述第二III族氮化物半导体区域之间,
所述第一光导层及所述第二光导层的总厚度为0.7μm以上。
9.如权利要求8所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述第一光导层及所述第二光导层的总厚度为0.9μm以上。
10.如权利要求8或9所述的III族氮化物半导体光元件,其中,
所述第一光导层包含第一及第二光导部,
所述第二光导部的折射率比所述第一光导部的折射率大,
所述第一光导部设置于所述第二光导部和所述第一III族氮化物半导体区域之间,
所述第二光导部设置于所述第一光导部和所述有源层之间,
所述第二光导部包含InGaN层,
所述第一光导部包含InGaN层、InAlGaN层、InAlN层及GaN层的至少一种。
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