[发明专利]薄膜晶体管基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜晶体管基板及其制造方法，其保证了对准容限并且缩减了掩模步骤的数量。

背景技术

本申请要求2009年10月27日提交的韩国专利申请No.10-2009-0102344的优先权，此处以引证的方式并入其内容，就像在此进行了完整阐述一样。

与其它显示设备相比，作为平板显示设备中的一种的用于利用液晶来显示图像的液晶显示(LCD)设备因诸如外形薄、重量轻、驱动电压低以及功耗低的各种优点而通常遍及行业广泛使用。

LCD设备设置有具有液晶单元的矩阵的液晶板和用于驱动该液晶板的驱动电路。该液晶板具有彼此相对地设置的薄膜晶体管基板和滤色基板，并且其间设置有液晶。在上基板上形成的滤色基板具有用于防止光泄漏的黑底(black matrix)、用于生成颜色的滤色器、用于与像素电极形成电场的公共电极、以及形成在上述部件上用于液晶的配向(alignment)的上配向膜。

薄膜晶体管基板具有形成在下基板上的选通线和数据线、形成在选通线与数据线的每一个交叉部分处的作为开关器件的薄膜晶体管、针对各个液晶单元形成并且连接至薄膜晶体管的像素电极、以及在上述部件上涂敷的配向膜。薄膜晶体管响应于提供给选通线的扫描信号向像素电极提供来自数据线的像素信号。

液晶板的薄膜晶体管基板需要多个掩模步骤，这使得制造工艺变复杂并由此增加了生产成本。即，因为各个掩模步骤都包括薄膜沉积步骤、冲洗步骤、光刻步骤、蚀刻步骤、光刻胶剥落步骤、检查步骤等，所以增加了生产成本。在这些步骤中，光刻步骤因高对准精确度要求而需要昂贵的设备。当在光刻步骤期间发生未对准时，该未对准直接造成缺陷。特别的是，因为选通线、数据线以及像素电极通过不同掩模步骤形成，所以在光刻工序期间未对准的概率非常高。

因而，进行研究以缩减用于制造薄膜晶体管基板所需的掩模步骤的数量，并由此缩减生产成本。

发明内容

因此，本发明致力于提供一种薄膜晶体管基板及其制造方法，其基本上消除了因相关技术的局限性和缺点而造成的一个或更多个问题。

本发明的一个优点是提供一种薄膜晶体管基板及其制造方法，其保证对准容限并且缩减掩模步骤的数量。

本发明的附加特征和优点将在下面的描述中描述且将从描述中部分地显现，或者可以通过本发明的实践来了解。通过书面的说明书及其权利要求以及附图中特别指出的结构可以实现和获得本发明的这些和其它优点。

为了实现这些和其它优点，按照本发明的目的，作为具体和广义的描述，一种薄膜晶体管基板例如可以包括：选通线和数据线，所述选通线和数据线彼此交叉以限定像素，位于所述数据线下方的栅金属图案，位于所述像素中的薄膜晶体管，其具有栅极、源极以及漏极，以及像素电极，其通过连接电极连接至所述薄膜晶体管的所述漏极，其中，所述数据线具有多个第一缝隙以将所述栅金属图案与所述选通线断开。

在本发明的另一方面，一种用于制造薄膜晶体管基板的方法例如可以包括以下步骤：通过第一构图工序在基板上形成包括选通线、栅金属图案以及薄膜晶体管的栅极的第一导电图案组，栅绝缘图案，半导体图案，包括数据线、所述薄膜晶体管的源极和漏极的第二导电图案组，像素电极，以及用于将所述栅金属图案与所述选通线断开的多个第一缝隙；以及通过第二构图工序形成将所述漏极连接至所述像素电极的连接电极。

应当理解，本发明的上述一般描述和下述详细描述是示例性和说明性的，且旨在提供所要求保护的本发明的进一步解释。

附图说明

附图被包括在本说明书中以提供对本发明的进一步理解，并结合到本说明书中且构成本说明书的一部分，附图示出了本发明的实施方式，且与说明书一起用于解释本发明的原理。附图中：

图1示出了例示根据本发明第一实施方式的薄膜晶体管基板的平面图；

图2分别示出了在图1中沿I-I’、II-II’、III-III’以及IV-IV’线截取的薄膜晶体管基板的截面图；

图3示出了例示根据本发明第二实施方式的薄膜晶体管基板的平面图；

图4分别示出了在图3中沿V-V’、IV-IV’、VII-VII’以及VIII-VIII’线截取的薄膜晶体管基板的截面图；

图5示出了例示用于制造本发明的薄膜晶体管基板的第一构图工序的平面图；

图6示出了例示用于制造本发明的薄膜晶体管基板的第一构图工序的截面图；

图7A到7H详细示出了描述图5和6所示的第一构图工序的截面图；

图8示出了例示用于制造本发明的薄膜晶体管基板的第二构图工序的平面图；