[发明专利]电路布局的调整方法有效
| 申请号： | 201010292482.4 | 申请日： | 2010-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN102411644A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 程洁;刘庆炜 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电路 布局 调整 方法 | ||
1.一种电路布局的调整方法，包括提供布局图形的步骤，所述的布局图形包括具有交叠区域的压应力膜图形和拉应力膜图形，以及在所述交叠区域的接触孔图形，所述交叠区域的边界包括相对的压应力膜图形边界和拉应力膜图形边界，其特征在于，还包括下述步骤：
调整所述交叠区域的压应力膜图形边界或拉应力膜图形边界，以使接触孔图形仅在调整后的压应力膜图形区域或仅在调整后的拉应力膜图形区域。
2.根据权利要求1所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述接触孔图形具有与交叠区域的边界相对的相对边界。
3.根据权利要求2所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述调整所述压应力膜图形边界为：将所述压应力膜图形边界朝向所述拉应力图形边界调整至与所述接触孔图形的相对边界交叠，或者调整至与所述拉应力膜图形边界交叠，或者调整至所述接触孔图形的相对边界与拉应力膜图形边界之间。
4.根据权利要求2所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述调整所述拉应力膜图形边界为：将所述拉应力膜图形边界朝向所述压应力图形边界调整至与所述接触孔图形的相对边界交叠，或者调整至与所述压应力膜图形边界交叠，或者调整至所述接触孔图形的相对边界与压应力膜图形边界之间。
5.根据权利要求2所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述调整所述拉应力膜图形边界为：将部分拉应力膜图形边界朝向所述压应力膜图形边界调整至与所述接触孔图形的相对边界交叠，或者调整至与所述压应力膜图形边界交叠，或者调整至所述接触孔图形的相对边界与压应力膜图形边界之间，所述部分拉应力膜图形边界是指所述拉应力膜图形边界的与所述接触孔图形的相对边界相对的部分及沿所述相对的部分向两边延伸特定长度的部分。
6.根据权利要求2所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述调整所述压应力膜图形边界为：将部分压应力膜图形边界朝向所述拉应力膜图形边界调整至与所述接触孔图形的相对边界交叠，或者调整至与所述拉应力膜图形边界交叠，或者调整至所述接触孔图形的相对边界与拉应力膜图形边界之间，所述部分压应力膜图形边界是指所述压应力膜图形边界的与所述接触孔图形的相对边界相对的部分及沿所述相对的部分向两边延伸特定长度的部分。
7.根据权利要求3至6任一项所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述调整所述压应力膜图形边界是指：若所述交叠区域的压应力膜图形边界穿过所述接触孔图形，则调整所述压应力膜图形边界。
8.根据权利要求3至6任一项所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述调整所述拉应力膜图形边界是指：若所述交叠区域的拉应力膜图形边界穿过所述接触孔图形，则调整所述拉应力膜图形边界。
9.根据权利要求5或6所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述特定长度为0.08μm。
10.根据权利要求2所述的电路布局的调整方法，其特征在于，所述接触孔为正方形，所述接触孔的长×宽为：0.06μm×0.06μm，交叠区域的宽度为0.06μm。
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