[发明专利]光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物：

其中R¹表示可以具有一个或多个羟基的C2-C12烷基或可以具有一个或多个羟基的C7-C12芳烷基，并且所述烷基和芳烷基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

R²和R³各自独立表示氢原子或可以具有一个或多个羟基的C1-C12烷基，并且所述烷基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且R¹和R²可以彼此结合以与R¹和R²所结合的碳原子一起形成C3-C36环，并且所述环可以具有一个或多个羟基并且所述环中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，

R⁴，R⁵和R⁶各自独立表示氢原子，C1-C6烷基，C3-C12饱和环烃基，C6-C12芳烃基或C5-C9杂芳基，并且R⁴和R⁵可以彼此结合以与R⁴和R⁵所结合的-CH-N-一起形成C5-C6杂环，并且所述烷基可以具有一个或多个取代基，所述的取代基选自由下列组成的组：-OH，-SH，-NH₂，C3-C12饱和环烃基，C6-C12芳烃基或C5-C9杂芳基，并且所述烷基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-，-S-，-CO-，-C(＝NH)或-NH-代替，并且所述饱和环烃基、所述芳烃基和所述杂芳基可以具有一个或多个取代基，所述的取代基选自由下列组成的组：-OH，-CO-R⁷，-O-CO-R⁷和-CO-O-R⁷，其中R⁷表示C1-C6烷基，并且

A¹表示单键或C1-C2亚烷基，所述C1-C2亚烷基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-代替。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中在式(I)中，R¹是乙基并且R²和R³是甲基。

3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中在式(I)中，R⁴是氢原子。

4.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂具有酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。

5.一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括下列步骤(1)至(5)：

(1)将根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物涂覆到基底上的步骤，

(2)通过进行干燥形成光致抗蚀剂膜的步骤，

(3)将所述光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，

(4)将曝光后的光致抗蚀剂膜烘焙的步骤，和

(5)将烘焙后的光致抗蚀剂膜用碱性显影剂显影，从而形成光致抗蚀剂图案的步骤。

6.一种由式(I-A)表示的化合物：

其中A¹⁰表示亚甲基，R⁵⁰表示C1-C6烷基并且R⁶⁰表示苯基或具有-COOR⁷⁰的苯基，其中R⁷⁰表示C1-C6烷基。

7.一种由式(I-12)，(I-20)或(I-110)表示的化合物：