[发明专利]镀膜件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201010282300.5 申请日: 2010-09-15
公开(公告)号: CN102400138A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;黄嘉 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种镀膜件及其制作方法,尤其涉及一种具有疏水性能的镀膜件及其制作方法。

背景技术

众所周知,固体表面对液体的润湿性是材料表面的一个重要性质。疏水表面一般是指水的接触角大于90°的表面,超疏水表面一般指水的接触角大于150°的表面。超疏水表面在工农业生产与日常生活中应用广泛,可用来防水、防污染、抗氧化等。

在工件表面涂装疏水薄膜是常用的表面处理方法,以此来实现工件表面疏水的功能。所述的疏水薄膜根据膜层组分的不同主要可分为无机疏水薄膜、有机聚合物疏水薄膜及无机/有机复合疏水薄膜。目前较为成熟的无机疏水薄膜多以化学方法制作,如溶胶-凝胶法、阳极氧化法、化学气相沉积(CVD)等。然而,上述的方法受环境因素影响较大,且所制得的疏水薄膜的疏水性能稳定性较差。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种具有稳定的疏水性能的镀膜件。

另外,还有必要提供一种制作上述镀膜件的方法。

一种镀膜件,包括一基材、一催化层、一结合层和一疏水层,所述催化层形成于基材上,所述结合层形成于催化层上,所述疏水层形成于结合层上,该催化层为一Sn膜层,该结合层为一含Ti、Sn、SnO2和TiO2的膜层,该疏水层为一Si-N膜层。

一种镀膜件的制作方法为:

提供一基材;在该基材表面磁控溅射一Sn膜层;在该Sn膜层上磁控溅射一Ti膜层;对形成有Sn膜和Ti膜层的基材在真空室中进行热氧化处理,使该二膜层中的部分Sn及部分Ti氧化生成SnO2和TiO2,形成一含Ti、Sn、SnO2和TiO2结合层;在该结合层上磁控溅射一疏水层,该疏水层为一Si-N膜层。

本发明镀膜件及其制作方法,通过对Sn膜层和Ti膜层的热氧化处理后,形成了一具有微米-纳米的乳突结构的结合层,可使得后续的疏水层牢固地结合于结合层的表面,使该疏水层的机械稳定性增强,达到更好的疏水效果。

附图说明

图1是本发明较佳实施例的镀膜件的剖视示意图。

图2是本发明较佳实施例的镀膜件的制作流程图。

主要元件符号说明

镀膜件    100

基材      10

催化层    11

结合层    13

疏水层    15

具体实施方式

请参阅图1,本发明一较佳实施例的镀膜件100,包括一基材10、一催化层11、一结合层13及一疏水层15。

该基材10可为不锈钢、铝等金属材料,也可为陶瓷、玻璃等非金属材料。

该催化层11为一Sn膜层。

该结合层13为一含Ti、Sn、SnO2和TiO2膜层。

该疏水层15为一Si-N膜层。

所述催化层11形成于基材10上,所述结合层13形成于催化层11上,所述疏水层15形成于结合层13上。

所述催化层11、结合层13和疏水层15,每一膜层的较佳厚度均在0.5μm~1.0μm之间。

本发明一较佳实施方式的镀膜件100的制作方法包括以下步骤:

提供一基材10。所述基材10的材质可为不锈钢、铝等金属材料,也可为陶瓷、玻璃等非金属材料。

对该基材10进行表面预处理。该表面预处理可包括常规的对基材10进行化学除油、除蜡、酸洗、超声波清洗及烘干等。

对经上述处理后的基材10的表面进行等离子体清洗,进一步去除基材10表面的油污,以改善基材10表面与后续涂层的结合力。

该等离子体清洗的具体操作及工艺参数可为:将基材10放入一磁控溅射镀膜机(图未示)的真空室内,将该真空室抽真空至6.0×10-5torr,通入流量为50~400sc cm(标准状态毫升/分钟)的氩气(纯度为99.999%),对基材10施加-300~-600V的偏压,对基材10表面进行等离子体清洗,清洗时间为5~10min。

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