[发明专利]真空传输制程设备及方法有效
申请号: | 201010274734.0 | 申请日: | 2010-09-07 |
公开(公告)号: | CN102403249A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 陈炯;钱锋 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677;H01L31/18 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;朱水平 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 传输 设备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及真空制程技术,特别是涉及一种真空传输制程设备以及相应的真空传输制程方法。
背景技术
新能源是二十一世纪世界经济发展中最具决定力的五大技术领域之一,太阳能便是一种清洁、高效、永不衰竭的新能源。在新世纪中,各国政府都将太阳能资源利用作为国家可持续发展战略的重要内容,光伏发电具有安全可靠、无噪声、无污染、制约少、故障率低、维护简便等诸多优点。近几年来,国际光伏发电产业迅猛发展,太阳能晶片供不应求,于是提高太阳能晶片的光电转化效率和太阳能晶片的生产能力已经成为一个重要的课题。
由于太阳能晶片的许多制程都需要在真空条件下完成,所以如何减少太阳能晶片进出真空的时间,以及有效利用太阳能晶片在真空中的制程时间对提高太阳能晶片制造设备的生产效率而言至关重要。现有的许多太阳能晶片制造方法都具有较高的生产效率,例如美国专利20080038908所提到的方法,但是基于该方法的设计原理,其生产效率仍然会受到一些天然的限制,诸如,当不同批次的工件进出真空环境时,或是在真空环境中从已加工工件切换至下批次待加工工件时,对工件的加工制程都不得不发生中断,在该中断时间段内,整个设备完全处于无效运行状态,即浪费了加工资源,又浪费了加工时间。由此可以看出,该专利所公开的该生产设备自然不可能实现最佳的生产效率。而除了该专利所公开的该设备及方法以外,在现有的各种其它真空制程方法中也未见能够获得最佳生产效率的模式。
发明内容
本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中的真空制程方法生产效率较低的缺陷,提供一种生产效率极高的真空传输制程设备以及相应的真空传输制程方法。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种真空传输制程设备,其包括一真空制程腔,该真空制程腔中设有一用于利用一加工介质对工件进行加工的加工装置,其特点在于,该真空传输制程设备还包括:至少两个连接于该真空制程腔一侧的进件腔以及至少两个连接于该真空制程腔另一侧的出件腔,各进件腔与各出件腔一一对应,并均可以在大气状态与真空状态之间切换;至少两个与各对进件腔及出件腔一一对应的传输平台,各传输平台均可以沿着进件腔、该真空制程腔、出件腔的路线往复移动,各传输平台的移动平面不同、但该加工介质的传输路径穿过所有传输平台的移动平面;一第一机械手臂,用于从大气环境向位于进件腔中的传输平台装载工件;一第二机械手臂,用于从位于出件腔中的传输平台向大气环境卸载工件;其中,该加工介质能够穿过各传输平台、但无法穿过工件,各传输平台用于在装载工件后依次连续地从进件腔经该真空制程腔移向出件腔,使各工件连续地在不同平面处接受该加工介质的加工,然后在卸载工件后从出件腔经该真空制程腔移回进件腔。
较佳地,各对进件腔及出件腔的设置高度不同,各传输平台的移动平面的高度不同,各传输平台用于在装载工件后依次连续地从进件腔经该真空制程腔移向出件腔,使各工件连续地在不同高度处接受该加工介质的加工,然后在卸载工件后从出件腔经该真空制程腔移回进件腔。
本发明的另一技术方案为:一种真空传输制程设备,其包括一真空制程腔,该真空制程腔中设有一用于利用一加工介质对工件进行加工的加工装置,其特点在于,该真空传输制程设备还包括:至少两个连接于该真空制程腔一侧的进件腔以及至少两个连接于该真空制程腔另一侧的出件腔,各进件腔与各出件腔一一对应,并均可以在大气状态与真空状态之间切换;至少两个与各对进件腔及出件腔一一对应的传输平台,各传输平台均可以沿着进件腔、该真空制程腔、出件腔、大气环境的环形路线单方向移动,各传输平台的移动平面不同、但该加工介质的传输路径穿过所有传输平台的移动平面;一第一机械手臂,用于从大气环境向位于进件腔中的传输平台装载工件以及从位于出件腔中的传输平台向大气环境卸载工件;其中,该加工介质能够穿过各传输平台、但无法穿过工件,各传输平台用于在装载工件后依次连续地从进件腔经该真空制程腔移向出件腔,使各工件连续地在不同平面处接受该加工介质的加工,然后在卸载工件后从出件腔经大气环境移回进件腔。
较佳地,各对进件腔及出件腔的设置高度不同,各传输平台的移动平面的高度不同,各传输平台用于在装载工件后依次连续地从进件腔经该真空制程腔移向出件腔,使各工件连续地在不同高度处接受该加工介质的加工,然后在卸载工件后从出件腔经大气环境移回进件腔。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造