[发明专利]用于从芳族化合物选择性溶剂中除去污染物的方法和装置有效
申请号: | 201010274703.5 | 申请日: | 2010-06-02 |
公开(公告)号: | CN101941877A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | J·L·诺埃;L·E·沙利文;B·R·比德尔;E·M·凯西;T·J·斯图特 | 申请(专利权)人: | 环球油品公司 |
主分类号: | C07C7/08 | 分类号: | C07C7/08;C07C7/04;C07C7/00;C07C15/00;B01D3/40 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 林柏楠;李颖 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 化合物 选择性 溶剂 除去 污染物 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种通过萃取蒸馏从烃物类的混合物中分离芳烃的装置和方法。更具体地,本发明涉及从这类过程所用的溶剂中除去污染物。
背景技术
可以从各种烃原料中回收芳烃,例如苯、甲苯和二甲苯,所述烃原料包括催化重整产品,来自各种烃加工单元例如二甲苯异构化的轻质副产物,来自焦炭生产的副产物油,和包含非芳烃的加氢热裂解汽油。在例如萃取过程中,使用芳族化合物选择性溶剂能够促进从非芳烃中除去所述芳烃。在某些过程中,所述烃原料与芳族化合物选择性溶剂在萃取蒸馏塔(ED塔)中接触,其中可能包括水的存在。所述ED塔产生包含一种或多种非芳烃和水(如果存在)的萃余相,其可从所述塔的顶部排出。包含所述芳族化合物选择性溶剂和所述原料中的一种或多种芳烃的富溶剂相可从所述ED塔的底部排出。在第二蒸馏塔中,其中可能包括水的存在,分离所述富溶剂相,产生所期望的芳烃组分的塔顶萃取流,和贫含芳烃的贫溶剂流,所述贫溶剂流再循环到所述ED塔。
为了满足对所期望的芳烃产品的纯度和回收率的要求,在所述ED塔中在最轻的芳烃和最重的非芳烃之间实现良好的分离是重要的。理想情况下,在所述ED塔的下部,所述芳族化合物选择性溶剂保留所有所述最轻的原料芳烃,例如苯,而在所述ED塔的上部排出所有所述最重的非芳烃。因此,当原料流中具有较宽的沸点范围的混合烃物类时,要满足严格的纯度和回收率要求是更加困难的。已经认识到,可采用各种步骤来除去所述ED塔产生的富溶剂流中的污染物。否则,这些污染物,例如比所期望的芳烃产品更重的芳烃和没有排入萃余流的非芳烃,可积聚在第二蒸馏塔中产生的作为所述过程中的循环溶剂的贫溶剂流中。污染物可能通过装置中的机械泄漏进入所述溶剂,这可能引入诸如加热介质或润滑油的物质。污染物也可能是形成于所述过程之中,例如通过所述芳族化合物选择性溶剂的降解形成。
公知地,用第二含水溶剂,例如水,以及使用或不使用部分所述非芳烃萃余液与所述第二塔中产生的部分所述贫溶剂接触,来产生包含所述芳族化合物选择性溶剂的第二含水溶剂流,在循环到所述ED塔之前对其进一步分离。参见例如US3,642,614和US2009/0038991A1。在本领域中仍然需要能够改进的从萃取蒸馏过程中使用的贫芳族化合物选择性溶剂流中除去污染物的装置和方法。
发明概述
在一个实施方案中,本发明涉及从芳族化合物选择性溶剂中除去污染物的方法,包括:将包含非芳烃和芳烃的原料流与芳族化合物选择性溶剂在萃取蒸馏区内接触,产生包含所述非芳烃的萃余流,和包含所述芳烃和所述芳族化合物选择性溶剂的富溶剂流;在第二蒸馏区分离所述富溶剂流,产生包含所述芳烃的萃取流和包含所述污染物和所述芳族化合物选择性溶剂的贫溶剂流;用包含第二非芳烃的清洗流清洗至少部分所述贫溶剂流,产生包含所述芳族化合物选择性溶剂的清洁溶剂流,和包含所述污染物和所述第二非芳烃的第一副产物流。将至少部分所述清洁溶剂流送入所述萃取蒸馏区和所述第二蒸馏区中的至少一个。
在一个实施方案中,所述芳烃包括苯、甲苯和二甲苯中的至少一种,且所述污染物包括C9+芳烃。在另一个实施方案中,所述贫溶剂清洗步骤进一步包括水的存在,其量不足以形成水相。
在另一实施方案中,所述第一副产物流还包含所述芳族化合物选择性溶剂,且所述方法进一步包括用包含水的第二溶剂清洗至少部分所述第一副产物流,产生包含所述污染物和所述第二非芳烃的第二副产物流,以及包含水和所述芳族化合物选择性溶剂的含水溶剂流。在进一步的实施方案中,将至少部分所述含水溶剂流引送入所述萃取蒸馏区和所述第二蒸馏区中的至少一个。
在一个实施方案中,本发明涉及用于从溶剂分离过程中除去污染物的装置,包括萃取蒸馏区、第二蒸馏区和贫溶剂清洗区。原料管道和溶剂管道提供了到所述萃取蒸馏区的流体连通,且萃余液管道提供了离开所述萃取蒸馏区的流体连通。富溶剂管道提供了从所述萃取蒸馏区到所述第二蒸馏区的流体连通,且萃取物管道提供了离开所述第二蒸馏区的流体连通。贫溶剂管道提供了从所述第二蒸馏区到所述贫溶剂清洗区的流体连通,清洗流体管道提供了到所述贫溶剂清洗区的流体连通,且副产物管道提供了离开所述贫溶剂清洗区的流体连通。清洁溶剂管道提供了从所述贫溶剂清洗区到所述萃取蒸馏区和所述第二蒸馏区中至少一个的流体连通。
在一个实施方案中,所述装置进一步包括副产物清洗区,所述副产物管道和第二溶剂管道提供了到所述副产物清洗区的流体连通,且第二副产物管道和含水溶剂管道提供了离开所述副产物清洗区的流体连通。在进一步的实施方案中,所述含水溶剂管道提供了到所述萃取蒸馏区和所述第二蒸馏区中至少一个的流体连通。
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