[发明专利]用于从芳族化合物选择性溶剂中除去污染物的方法和装置

权利要求书

1.从芳族化合物选择性溶剂中除去污染物的方法，所述方法包括：

(a)将包含非芳烃和芳烃的原料流与所述芳族化合物选择性溶剂在萃取蒸馏区内接触，产生包含所述非芳烃的萃余流，和包含所述芳烃和所述芳族化合物选择性溶剂的富溶剂流；

(b)在第二蒸馏区分离所述富溶剂流，产生包含所述芳烃的萃取流，和包含所述污染物和所述芳族化合物选择性溶剂的贫溶剂流；

(c)用包含第二非芳烃的清洗流清洗至少部分所述贫溶剂流，产生包含所述芳族化合物选择性溶剂的清洁溶剂流，和包含所述污染物和所述第二非芳烃的第一副产物流；以及

(d)将至少部分所述清洁溶剂流引入所述萃取蒸馏区和所述第二蒸馏区中的至少一个。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述芳族化合物选择性溶剂选自1，1-二氧四氢噻吩、2-环丁烯砜、3-环丁烯砜、2-甲基环丁砜、2-4-二甲基环丁砜、甲基-2-磺酰基醚、N-芳基-3-磺酰基胺、乙基-3-磺酰基硫化物、2-磺酰基乙酸酯、二乙二醇、聚乙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、二醇胺、二醇、二醇醚、N-甲基-2-吡咯烷酮和N-甲酰基吗啉，以及它们的组合。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在步骤(c)中清洗的所述贫溶剂流部分占步骤(b)产生的贫溶剂流的0.1％-60％。

4.根据权利要求1所述的方法，其中贫溶剂清洗步骤(c)中所述第二非芳烃与所述至少部分所述贫溶剂流的重量比为0.02-10。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述贫溶剂清洗步骤(c)进一步包括水的存在；任选地，在贫溶剂清洗步骤(c)中水的量不足以形成水相。

6.根据权利要求1所述的方法，其中来自步骤(a)的所述萃余流的至少部分提供了贫溶剂清洗步骤(c)中的所述清洗流的至少一部分。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一副产物流还包含所述芳族化合物选择性溶剂，所述方法进一步包括：

(e)用包含水的第二溶剂流清洗至少部分所述第一副产物流，产生包含所述污染物和所述第二非芳烃的第二副产物流，和包含水和所述芳族化合物选择性溶剂的含水溶剂流。

8.根据权利要求7所述的方法，进一步包括将至少部分所述含水溶剂流送入步骤(a)的所述萃取蒸馏区和步骤(b)的所述第二蒸馏区中的至少一个。

9.用于从溶剂分离过程中除去污染物的装置，包括：

(a)萃取蒸馏区；

(b)提供到所述萃取蒸馏区的流体连通的原料管道；

(c)提供到所述萃取蒸馏区的流体连通的溶剂管道；

(d)提供离开所述萃取蒸馏区的流体连通的萃余液管道；

(e)提供从所述萃取蒸馏区到第二蒸馏区的流体连通的富溶剂管道；

(f)提供离开所述第二蒸馏区的流体连通的萃取物管道；

(g)提供从所述第二蒸馏区到贫溶剂清洗区的流体连通的贫溶剂管道；

(h)提供到所述贫溶剂清洗区的流体连通的清洗流体管道；

(i)提供从所述贫溶剂清洗区到所述萃取蒸馏区和所述第二蒸馏区中的至少一个的清洁溶剂管道；和

(j)提供离开所述贫溶剂清洗区的流体连通的副产物管道。

10.根据权利要求1所述的装置，进一步包括副产物清洗区，提供到所述副产物清洗区的流体连通的副产物管道；提供到所述副产物清洗区的流体连通的第二溶剂管道；提供离开所述副产物清洗区的流体连通的第二副产物管道；和提供离开所述副产物清洗区的流体连通的含水溶剂管道。