[发明专利]壳体及其制作方法无效
| 申请号： | 201010273222.2 | 申请日： | 2010-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN102383094A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，其包括一金属基体、一形成于金属基体表面的发光层及一形成于发光层表面的保护层，其特征在于：所述壳体还包括一设置于金属基体与发光层之间的阻挡层，该阻挡层为一钛膜层，所述发光层为一稀土铝酸盐膜层，所述保护层为一二氧化硅膜层。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述阻挡层以真空溅镀的方式形成，其厚度为100-200nm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述稀土铝酸盐选自为铝酸锶铕、铝酸锶镝、铝酸钙铕及铝酸钙镝中的一种或几种的组合。
4.如权利要求3所述的壳体，其特征在于：所述发光层以真空蒸镀的方式形成，其厚度在5-10μm之间。
5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述二氧化硅膜层以真空蒸镀的方式形成，其厚度为100-500nm。
6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述金属基体的材质为不锈钢或铁基合金。
7.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一金属基体；
采用真空溅镀法在该金属基体的一表面沉积一阻挡层，该阻挡层为一钛膜层；
采用真空蒸镀法在该阻挡层的表面沉积一发光层，该发光层为一稀土铝酸盐膜层；
采用真空蒸镀法在该发光层表面沉积一保护层，该保护层为一二氧化硅膜层。
8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅镀所述阻挡层以钛靶为靶材，以氩气为工作气体，氩气的流量为20～150sccm，对金属基体施加的偏压为-100～-300V，溅镀温度为100～200℃，溅镀时间为20～40min。
9.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：蒸镀所述发光层以铝酸锶铕、铝酸锶镝、铝酸钙铕及铝酸钙镝中的一种或几种的组合形成的块体作为蒸料，采用电子束加热，蒸镀该发光层的速率为3-10埃/秒。
10.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于：蒸镀所述发光层时，同时以900-1500瓦的离子束对所述阻挡层的表面进行轰击。
11.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：蒸镀所述保护层以二氧化硅块体作为蒸料，采用电子束加热，蒸镀该保护层的速率为3-10埃/秒。
12.如权利要求11所述的壳体的制作方法，其特征在于：蒸镀所述保护层时，同时以900-1500瓦的离子束对所述发光层的表面进行轰击。
13.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述制作方法还包括在溅镀阻挡层前对所述金属基体进行超声波清洗及氩气等离子体清洗的步骤。
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