[发明专利]基板输送装置以及基板输送方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种平流输送被处理基板的基板输送装置以及基板输送方法。

背景技术

例如，在FPD(flat panel display：平板显示器)的制造中，通过所谓光刻工序进行电路图案的形成。

所述光刻工序具体地如下进行。

首先，在玻璃基板等被处理基板上形成规定膜后，涂敷作为处理液的光致抗蚀剂(以下称作抗蚀剂)，形成抗蚀剂膜。然后，对应电路图案而对抗蚀剂进行曝光并进行显影处理。

近年来，在该光刻工序中，为了提高生产能力，多采用在以大致水平姿势的状态输送被处理基板的同时对该被处理面实施抗蚀剂的涂敷、干燥、加热、冷却处理等各种处理的结构。

作为所述基板输送的结构，将基板以大致水平姿势的状态浮起到规定高度，在基板输送方向上输送的浮起输送受到关注。

使用该浮起输送的基板输送装置如专利文献1所公开，例如在抗蚀剂涂敷处理装置中采用。关于该以往的构成例，根据图14进行说明。

图14的基板输送装置200具有用于浮起输送作为被处理基板的LCD基板(液晶显示面板)G的浮起台201、铺设在浮起台201的左右两侧的轨道202、从下方吸附保持基板G的四角附近，在轨道202上滑动移动的四个基板载体203。

在浮起台201的上表面分别在X方向和Y方向以一定间隔交替设置用于朝向上方(Z方向)喷射规定气体的多个气体喷射口201a和用于进行吸气的多个吸气口201b。然后，通过将从气体喷射口201a喷射的气体喷射量和来自吸气口201b的吸气量的压力负载保持恒定，从而使基板从浮起台201的表面浮起到一定高度。

另外，在浮起台201的后段设置滚动输送路210，在该滚动输送路210中以规定间隔在Y方向上隔开设置的多个滚动轴211上，能够旋转地设置多个输送滚体212。

另外，在该滚动输送路210的左右两侧铺设轨道215，该轨道215上能够移动地设置能够吸附保持基板G的下表面的滑块216。该滑块216用于将基板G从浮起台201引入到输送滚体212上。

另外，在该涂敷处理装置中还设有对在浮起台201上被浮起输送的LCD基板G的表面供给抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴204、用于清洗抗蚀剂喷嘴204的喷嘴清洗单元205和使抗蚀剂喷嘴204待机的喷嘴待机部206。

在抗蚀剂液的涂敷处理时，在浮起台201上浮起的基板G由在轨道202上滑动移动的基板载体203保持四角，而在Y方向上移动。然后，基板G在抗蚀剂喷嘴204的下方移动时，从缝隙状的喷嘴口(未图示)以带状供给抗蚀剂液，抗蚀剂液被涂敷在基板G的被处理面上。

当浮起台201上的抗蚀剂液的涂敷处理结束，基板G如图15(a)所示由基板载体203保持着四角而朝向滚动输送路210移动。

然后，如图15(b)所示，当基板G的前端到达滚动输送路210的开始位置，基板载体203停止移动。

在此，在滚动输送路210的开始位置上滑块216在待机，能够升降地设于滑块216上的吸附部216a上升，如图15(c)所示吸附保持基板G的前端部下表面。

当由滑块216的吸附部216a吸附保持基板G的前端部，吸附保持基板G至此的基板载体203如图15(d)所示解除基板吸附。

然后，如图15(e)所示，当滑块216沿轨道215在基板输送方向上移动，将基板G的规定区域(例如基板G的三分之一程度)引入到基板输送路210上，则滑块216的吸附部216a解除吸附。在此，基板G由输送滚体212的驱动力在滚动输送路210上输送。

专利文献1：日本专利特开2006-237482号公报

如前所述，基板G在浮起台201上涂敷抗蚀剂后，如图15(b)～图15(d)所示在浮起台201上暂时停止，之后被交接输送给输送滚体212。

但是，如此当在浮起台201上基板G停止一定期间，则从浮起台201的气体喷射口201a喷射的气体持续吹到基板下表面的一定部位上，在抗蚀剂膜上由温度变化等会产生转印痕迹。

另外，从浮起输送转移至滚动输送时，如前所述由于暂时停止基板G的输送，生产能力会降低。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而研发的，其目的在于提供一种不用停止基板的输送而将其从浮起台运出，抑制对基板的被处理面产生转印痕迹，能够提高生产能力的基板输送装置以及基板输送方法。