[发明专利]喷砂装置及形成图案的方法有效
申请号: | 201010268019.6 | 申请日: | 2010-08-31 |
公开(公告)号: | CN102380829A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 许嘉麟 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | B24C3/02 | 分类号: | B24C3/02;B24B5/00;B24C1/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 喷砂 装置 形成 图案 方法 | ||
技术领域
本发明涉及喷砂装置,以及涉及利用喷砂装置形成图案的方法。
背景技术
喷砂装置的喷砂利用物理碰撞切削工件的方法常被用于清整去污,使工件表面具有一定清洁度和粗糙度。现有技术的一种喷砂装置具有一个喷嘴,砂粒经过该喷嘴即撒向工件表面。该砂粒对工件具有非等向性的物理蚀刻效果。
随着现在的工件越来越精密,其待加工的区域越来越小。然而,由于砂粒经过喷嘴喷出,其会撒向一个更宽的区域,即喷射区可能比喷嘴尺寸大2~3倍。因此,难以应用喷砂于精密加工领域。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种可应用于精密加工领域的喷砂装置和利用该喷砂装置形成图案的方法。
一种喷砂装置,其包括一具有一内部空间的主体,一个与该主体连接且出口对准该内部空间的喷嘴,以及一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道。该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域。
一种形成图案的方法,其包括如下步骤:提供一基板,其具有一待形成图案的膜层;覆盖一干膜光阻层于该膜层;提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光;显影去除可显影溶解的光阻而留下不可显影溶解的光阻成为光阻保护层;利用上述喷砂装置喷砂蚀刻去除未受该光阻保护层遮盖的该膜层;去除该光阻保护层,于该基板上形成膜层图案。
相对于现有技术,本发明提供的喷砂装置设有与喷嘴相对的过滤通道,从过滤通道落下的喷砂蚀刻工件待加工预定区域而使工件表面形成图案。
附图说明
图1是本发明第一实施例提供的喷砂装置的立体示意图。
图2是图1的喷砂装置沿II-II线的剖示图,其中砂粒添加于上以显示砂粒流向。
图3是本发明第二实施例提供的喷砂装置的剖示图。
图4至图9是利用喷砂装置形成图案的方法的步骤的示意图。
主要元件符号说明
喷砂装置 100,200
主体 110,210
支柱 112,212
挡板 140
内部空间 142
喷嘴 120,220
出口 122,222
过滤通道 130,230
收容槽 238
内部通孔 132
管状端部 134
板状端部 136
圆弧形连接部 138
砂粒 20
基板 30
膜层 40
干膜光阻层 50
滚轮 52
光罩 54
光阻保护层 60
膜层图案 70
具体实施方式
下面将结合附图及多个实施例,对本技术方案提供的喷砂装置和利用该喷砂装置形成图案的方法作进一步的详细说明。
请参阅一并图1和图2,本发明第一实施例提供的喷砂装置100包括一主体110,一个与该主体110连接的喷嘴120,以及一个过滤通道130。
该主体110包括四个支柱112和四个挡板140。该等支柱112和该等挡板140围成一个内部空间142。该等挡板140与该支柱112一体成型。当该等挡板140高度较高,可以支撑该主体110时,该等支柱112可以省略。该主体110承载砂粒20,并将该砂粒20以一定的速率从该喷嘴120喷出。该砂粒20的种类和粒径依照待喷砂的工件材质和待蚀刻的深度而定,以不破坏工件底材为宜。例如当工件底材为一金属,可选用硬度比该金属低的砂粒,当工件底材为一玻璃,可选用硬度比玻璃珠低的砂粒,当工件底材为聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)基板,由于PET具有高分子的韧性,砂粒的材质比较不受限制。
该喷嘴120的尺寸依待喷射的面积和需要的喷射速率而定。该喷嘴120的出口122对准该内部空间142。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010268019.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:壳体及其制作方法
- 下一篇:L-色氨酸分离纯化的一种工艺