[发明专利]喷砂装置及形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201010268019.6 申请日: 2010-08-31
公开(公告)号: CN102380829A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 许嘉麟 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B24C3/02 分类号: B24C3/02;B24B5/00;B24C1/04
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摘要:
搜索关键词: 喷砂 装置 形成 图案 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及喷砂装置,以及涉及利用喷砂装置形成图案的方法。

背景技术

喷砂装置的喷砂利用物理碰撞切削工件的方法常被用于清整去污,使工件表面具有一定清洁度和粗糙度。现有技术的一种喷砂装置具有一个喷嘴,砂粒经过该喷嘴即撒向工件表面。该砂粒对工件具有非等向性的物理蚀刻效果。

随着现在的工件越来越精密,其待加工的区域越来越小。然而,由于砂粒经过喷嘴喷出,其会撒向一个更宽的区域,即喷射区可能比喷嘴尺寸大2~3倍。因此,难以应用喷砂于精密加工领域。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种可应用于精密加工领域的喷砂装置和利用该喷砂装置形成图案的方法。

一种喷砂装置,其包括一具有一内部空间的主体,一个与该主体连接且出口对准该内部空间的喷嘴,以及一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道。该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域。

一种形成图案的方法,其包括如下步骤:提供一基板,其具有一待形成图案的膜层;覆盖一干膜光阻层于该膜层;提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光;显影去除可显影溶解的光阻而留下不可显影溶解的光阻成为光阻保护层;利用上述喷砂装置喷砂蚀刻去除未受该光阻保护层遮盖的该膜层;去除该光阻保护层,于该基板上形成膜层图案。

相对于现有技术,本发明提供的喷砂装置设有与喷嘴相对的过滤通道,从过滤通道落下的喷砂蚀刻工件待加工预定区域而使工件表面形成图案。

附图说明

图1是本发明第一实施例提供的喷砂装置的立体示意图。

图2是图1的喷砂装置沿II-II线的剖示图,其中砂粒添加于上以显示砂粒流向。

图3是本发明第二实施例提供的喷砂装置的剖示图。

图4至图9是利用喷砂装置形成图案的方法的步骤的示意图。

主要元件符号说明

喷砂装置        100,200

主体            110,210

支柱            112,212

挡板            140

内部空间        142

喷嘴            120,220

出口            122,222

过滤通道        130,230

收容槽          238

内部通孔        132

管状端部        134

板状端部        136

圆弧形连接部    138

砂粒            20

基板            30

膜层            40

干膜光阻层      50

滚轮            52

光罩            54

光阻保护层      60

膜层图案        70

具体实施方式

下面将结合附图及多个实施例,对本技术方案提供的喷砂装置和利用该喷砂装置形成图案的方法作进一步的详细说明。

请参阅一并图1和图2,本发明第一实施例提供的喷砂装置100包括一主体110,一个与该主体110连接的喷嘴120,以及一个过滤通道130。

该主体110包括四个支柱112和四个挡板140。该等支柱112和该等挡板140围成一个内部空间142。该等挡板140与该支柱112一体成型。当该等挡板140高度较高,可以支撑该主体110时,该等支柱112可以省略。该主体110承载砂粒20,并将该砂粒20以一定的速率从该喷嘴120喷出。该砂粒20的种类和粒径依照待喷砂的工件材质和待蚀刻的深度而定,以不破坏工件底材为宜。例如当工件底材为一金属,可选用硬度比该金属低的砂粒,当工件底材为一玻璃,可选用硬度比玻璃珠低的砂粒,当工件底材为聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)基板,由于PET具有高分子的韧性,砂粒的材质比较不受限制。

该喷嘴120的尺寸依待喷射的面积和需要的喷射速率而定。该喷嘴120的出口122对准该内部空间142。

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