[发明专利]喷砂装置及形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201010268019.6 申请日: 2010-08-31
公开(公告)号: CN102380829A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 许嘉麟 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B24C3/02 分类号: B24C3/02;B24B5/00;B24C1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 喷砂 装置 形成 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种喷砂装置,其包括:

一主体,其具有一内部空间;

一个与该主体连接的喷嘴,该喷嘴的出口对准该主体内部空间;以及

一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道,该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域。

2.如权利要求1所述的喷砂装置,其中:该主体包括多个支柱以及多个挡板,该多个支柱以及该多个挡板围成该内部空间。

3.如权利要求1所述的喷砂装置,其中:该过滤通道与该喷嘴同轴设置。

4.如权利要求1所述的喷砂装置,其中:该过滤通道包括一靠近该喷嘴的管状端部以及一靠近待喷砂的工件预定区域的板状端部,该内部通孔贯穿该管状端部和该板状端部。

5.如权利要求4所述的喷砂装置,其中:该过滤通道进一步包括一连接该管状端部和该板状端部的圆弧形连接部。

6.如权利要求4所述的喷砂装置,其中:该过滤通道进一步包括一开设在该板状端部朝向该内部空间的表面的砂粒收容槽。

7.如权利要求1所述的喷砂装置,其中:该主体包括多个支柱,该等支柱限定该内部空间,该过滤通道周缘与该支柱配合。

8.一种形成图案的方法,其包括:

提供一基板,其具有一待形成图案的膜层;

覆盖一干膜光阻层于该膜层;

提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光;

显影去除可显影溶解的光阻而留下不可显影溶解的光阻成为光阻保护层;

提供一喷砂装置,该喷砂装置包括一具有一内部空间的主体,一个与该主体连接且出口对准该内部空间的喷嘴,以及一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道,该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域;

利用该喷砂装置喷砂蚀刻去除未受该光阻保护层遮盖的该膜层;以及

去除该光阻保护层,于该基板上形成膜层图案。

9.如权利要求8所述的形成图案的方法,其中:该干膜光阻层为正光阻,受曝光和显影去除的光阻非对应图案区域。

10.如权利要求8所述的形成图案的方法,其中:该过滤通道与该喷嘴同轴设置。

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