[发明专利]涂敷装置及其涂敷位置修正方法有效
申请号: | 201010261161.8 | 申请日: | 2010-08-19 |
公开(公告)号: | CN102019254A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 圆山勇;川北英之;石丸康治;小菅忠男;渡边健 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立工业设备技术 |
主分类号: | B05C5/00 | 分类号: | B05C5/00;B05C11/00;B05B13/04;B05B15/08;B05B15/00;G02F1/1339 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李洋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 及其 位置 修正 方法 | ||
1.一种涂敷装置,在基台上设置能在第1方向移动的多个门形架,在每个门形架上设置能在沿着该门形架的长度方向的第2方向移动的多个涂敷头,利用该门形架朝第1方向的移动和该涂敷头相对于该门形架朝该第2方向的移动,该涂敷头一边在该第1、第2方向移动,一边对载置在基板载置台的基板上涂敷浆料,由每个该涂敷头在该基板上描绘浆料图案,该基板载置台设在架台上,其特征在于,该涂敷头分别备有照相机;
在该基板载置台上,对每个该门形架设置用于对设在该门形架上的多个该涂敷头进行对位的模拟用玻璃基板,并且,设置多个该门形架对位用的基准位置记号;
在该模拟用玻璃基板上,由同一该门形架上的多个该涂敷头涂敷浆料,描绘浆料记号;
该涂敷装置备有第1机构和第2机构;
上述第1机构,通过用该照相机对描绘在该模拟用玻璃基板上的该浆料记号进行拍摄、检测出该浆料记号的描绘位置,从而检测出该门形架上的多个该涂敷头间的位置偏差,根据检测出的该位置偏差,进行多个该涂敷头相互间的对位;
上述第2机构,通过使多个该门形架分别在该第1方向移动到该基板载置台上的该基准位置记号被该照相机拍摄的位置,检测出该各个门形架移动到该基准位置记号的位置的移动距离,对该门形架的每一个检测相对于用于描绘浆料图案而预定的待机位置在该第1方向的位置偏差,根据检测出的该位置偏差,将该门形架的每一个对位到该待机位置。
2.如权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,上述基准位置记号是设在上述基板载置台的中央部附近的基板保持用的吸附孔。
3.如权利要求1或2所述的涂敷装置,其特征在于,上述涂敷头能在上述门形架移动的上述第1方向移动,能进行上述第1方向的对位。
4.如权利要求3所述的涂敷装置,其特征在于,
对上述门形架的每一个,把设在上述门形架上的多个上述涂敷头中的一个作为基准涂敷头;
该基准涂敷头相对于上述第1方向位置固定,除该基准涂敷头以外的上述涂敷头能在上述第1方向移动;
除该基准涂敷头以外的上述涂敷头相对于该基准涂敷头能进行上述第1方向的对位。
5.一种涂敷装置的涂敷位置修正方法,在该涂敷装置中,在基台上设有能在第1方向移动的多个门形架,在每个门形架上设置能在沿着该门形架的长度方向的第2方向移动的多个涂敷头,利用该门形架朝第1方向的移动和该涂敷头相对于该门形架朝该第2方向的移动,使得该涂敷头一边在第1、第2方向移动,一边对载置在基板载置台上的基板上涂敷浆料,由每个该涂敷头在该基板上描绘浆料图案,该基板载置台设在该架台上;该方法的特征在于,
对每个该门形架,在该基板载置台上设置模拟用玻璃基板;
在该模拟用玻璃基板上,由设在与其对应的该门形架上的该多个涂敷头的每一个描绘浆料记号,用照相机对描绘的各该浆料记号进行拍摄,检测其位置,从而检测出多个该涂敷头相互间的位置偏差,根据检测出的该位置偏差,进行多个该涂敷头的对位;
在该基板载置台上设置基准位置记号;
使多个该门形架分别移动到该基准位置记号的位置,对多个该门形架的每一个,检测该门形架的预定的待机位置相对于该基准位置记号在该第1方向的位置偏差,根据检测出的该位置偏差,将多个该门形架对位在该待机位置。
6.如权利要求5所述的涂敷装置的涂敷位置修正方法,其特征在于,上述基准位置记号是设在上述基板载置台的中央部附近的基板保持用的吸附孔。
7.如权利要求5或6所述的涂敷装置的涂敷位置修正方法,其特征在于,上述涂敷头能在上述门形架移动的上述第1方向移动,能进行上述第1方向的对位。
8.如权利要求7所述的涂敷装置的涂敷位置修正方法,其特征在于,
对上述门形架的每一个,把设在上述门形架上的多个上述涂敷头中的一个作为基准涂敷头;
该基准涂敷头相对于上述第1方向位置固定,除该基准涂敷头以外的上述涂敷头能在上述第1方向移动;
除该基准涂敷头以外的上述涂敷头相对于该基准涂敷头能进行上述第1方向的对位。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立工业设备技术,未经株式会社日立工业设备技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010261161.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:开关柜温湿度保护电路
- 下一篇:反射式萨格奈克干涉型全光纤磁场传感器