[发明专利]蒸镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及具备检测蒸镀速度(蒸镀速率)的检测装置的蒸镀装置。 

背景技术

例如在专利文献1公开了上沉积型的蒸镀装置。该蒸镀装置在保持为真空状态的成膜室的上部，由保持件保持着基板。另外，在成膜室的下部，与此基板相向地配置着具有多个放出喷嘴的分散容器。然后，在成膜室的下方设置着用于使蒸镀材料蒸发的多个蒸发单元。再有，在这些蒸发单元上连接着材料导入管，这些材料导入管贯通成膜室的底壁，与上述分散容器连接。然后，在各材料导入管上分别设置控制蒸镀速度的控制阀。 

然后，在基板的附近，配置用于对蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度进行监视的第一水晶振子。另外，在各分散容器的侧部分别设置着将材料的一部分放出的检测喷嘴，检测蒸镀速度的第二水晶振子与这些检测喷嘴相向地分别配置。 

在上述以往结构中，由第二水晶振子检测从分散容器经放出喷嘴放出的蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度，根据该检测信号，由膜厚控制装置对控制阀进行反馈控制。另外，第一水晶振子用于监视蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度。 

在先技术文献 

专利文献 

专利文献1：日本特开2008-75095号公报 

然而，虽然为了高精度地检测第二水晶振子上的蒸镀材料的蒸镀速度，与蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度相应地设定蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度，但是，若蒸镀材料的相对于基板的蒸 镀速度的变化过大，则存在产生故障的情况。 

例如，在使从分散容器经放出喷嘴放出的蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度为 进行稳定化蒸镀(指以均匀的蒸镀速度进行的蒸镀作业)的第一蒸镀工序中，将蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度设定为 该 为恰当值。接着，在使用该分散容器进行第二蒸镀工序时，从分散容器经放出喷嘴放出的蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度为了以第一蒸镀工序的1/100，即， 进行稳定化蒸镀而被改变，该情况下，蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度也成为第一蒸镀工序的1/100，即 检测信号极小。这样，若蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度与恰当值 相比，大幅减小到 则第二水晶振子的信号/噪音比(S/N比)减小，容易大幅受到噪音的影响。据此，因为不能高精度地检测蒸镀速度，所以，存在不能进行恰当地反馈控制的问题。 

另外，在使从分散容器经放出喷嘴放出的蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度为 进行稳定化蒸镀的第三蒸镀工序中，将蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度设定为 该 为恰当值。接着，在使用该分散容器进行第四蒸镀工序时，从分散容器经放出喷嘴放出的蒸镀材料的相对于基板的蒸镀速度以为了以第三蒸镀工序的100倍，即， 进行稳定化蒸镀而被设定，该情况下，蒸镀材料的相对于第二水晶振子的蒸镀速度也成为第三蒸镀工序的100倍，即 大量的蒸镀材料被蒸镀在第二水晶振子。据此，产生第二水晶振子能够检测蒸镀速度的时间(寿命)极端变短的问题。 

本发明的目的是提供一种具备即使蒸镀材料的相对于被蒸镀材(基板)的蒸镀速度大幅改变，也能够高精度地检测蒸镀速度，恰当地进行控制阀的控制，且不会缩短水晶振子的寿命的蒸镀速度检测装置的蒸镀装置。 

发明内容

第一发明是一种蒸镀装置， 

该蒸镀装置在保持为真空状态的成膜室内相互相向地配置着具有 多个蒸镀喷嘴的分散容器和被蒸镀材，从使蒸镀材料蒸发的蒸发单元到上述分散容器，连接着具有控制阀的材料导入管， 

在上述分散容器上贯穿设置着检测喷嘴，且与该检测喷嘴相向地配置着检测从该检测喷嘴放出的蒸镀材料的蒸镀速度的蒸镀速度检测元件， 

设置了使上述检测喷嘴的放出口和上述蒸镀速度检测元件的至少一种相对于另一种接近、离开地移动的蒸镀速度调整机构。 

第二发明是在第一发明的结构中， 

蒸镀速度调整机构具有相对于被固定的上述检测喷嘴，使上述蒸镀速度检测元件接近、离开地移动的元件调整装置， 

设置了与相对于上述被蒸镀材的蒸镀速度相应地操作上述元件调整装置，调整上述检测喷嘴的放出口和上述蒸镀速度检测元件的距离，且根据上述蒸镀速度检测元件的检测信号，操作上述控制阀的蒸镀控制装置。 

第三发明是在第一发明的结构中， 

上述蒸镀速度调整机构具有进退自由或伸缩自由地构成上述检测喷嘴，且使上述检测喷嘴进退或伸缩，使该检测喷嘴的放出口相对于蒸镀速度检测元件接近、离开地移动的喷嘴调整装置，